[实用新型]一种金属有机化学气相沉积设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及化工领域，具体涉及一种金属有机化学气相沉积设备。

背景技术

金属有机化学气相沉积(简称MOCVD)是制备混合半导体器件、金属、及金属氧化物薄膜材料的一种技术。加热系统是MOCVD设备的重要组成部分，它能否快速、均匀加热衬底，直接影响薄膜沉积的质量、厚度一致性，以及芯片的性能，传统的MOCVD存在因加热器问题导致薄膜材料形成质量差的问题，而且传统的加热器的使用寿命短，需要定期更换，使用不便。

实用新型内容

为解决上述问题，本实用新型提供了一种金属有机化学气相沉积设备，能够实现大面积的均匀加热，升降温过程中温度均匀，能够生产质量好的金属薄膜，实用性强。

为实现上述目的，本实用新型采取的技术方案为：

一种金属有机化学气相沉积设备，包括中心其他入口、喷淋气体入口、侧壁吹扫气体入口、石墨盘、电阻片加热器、石英整流罩、气体出口和加热器反射板，所述石墨盘上方设置有由中心至边缘分别设置有中心其他入口、喷淋气体入口、侧壁吹扫气体入口，石墨盘下方设置有电阻片加热器，所述电阻片加热器下方设置有多个加热器反射板，所述石墨盘和加热器反射板外侧设置有石英整流罩，石英整流罩下方设置有气体出口。

优选的，所述的喷淋气体入口为间距15mm的环形气体入口。

优选的，所述的电阻片加热器为环形片。

本实用新型具有以下有益效果：

1、能够实现大尺寸石墨托盘的均匀加热，有效面积能够覆盖整个盘面；

2、现升降温速率快、稳定时间短；

3、升降温动态过程中温度均匀；

4、对于不同的气流环境，都能实现均匀加热；

5、结构温度可靠，形成的金属薄膜质量好。

附图说明

图1为本实用新型实施例的半剖图。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的及优点更加清楚明白，以下结合实施例对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

如图1所示，本实用新型实施例提供了一种金属有机化学气相沉积设备，包括中心其他入口1、喷淋气体入口2、侧壁吹扫气体入口3、石墨盘4、电阻片加热器5、石英整流罩6、气体出口7和加热器反射板8，所述石墨盘4上方设置有由中心至边缘分别设置有中心其他入口1、喷淋气体入口2、侧壁吹扫气体入口3，石墨盘4下方设置有电阻片加热器5，所述电阻片加热器5下方设置有多个加热器反射板8，所述石墨盘4和加热器反射板8外侧设置有石英整流罩6，石英整流罩6下方设置有气体出口7。

所述的喷淋气体入口2为间距15mm的环形气体入口。

所述的电阻片加热器5为环形片。

其中，所述加热器反射板8表面涂抹有远红外辐射涂料；所述的中心其他入口1、喷淋气体入口2、侧壁吹扫气体入口3、气体出口7内均气体流量计；所述气体流量计内设有蓝牙模块，所述气体流量计通过蓝牙与移动终端无线通讯。

本具体实施方式的石墨盘直径为400mm，石墨盘顶部距离喷淋顶面12mm，石墨盘下表面距离加热片15mm，侧壁吹扫气流道宽3mm；由于石墨盘与石英整流罩所包围的内部密闭腔体内气体流速很小，而且石墨盘下部距离加热电阻片非常近，此处气流更是缓慢，因此可以忽略吹扫气流带来的影响，因为本实用新型的加热器为环形片状，且能够能够实现大尺寸石墨托盘的均匀加热，有效面积能够覆盖整个盘面，能够形成质量较好的金属薄膜。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。