[实用新型]一种光罩护膜清洁装置有效
| 申请号: | 201520145480.0 | 申请日: | 2015-03-13 |
| 公开(公告)号: | CN204462637U | 公开(公告)日: | 2015-07-08 |
| 发明(设计)人: | 邢滨;郝静安;张强 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 |
| 主分类号: | G03F1/82 | 分类号: | G03F1/82 |
| 代理公司: | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人: | 余明伟 |
| 地址: | 100176 北京市大兴*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 光罩护膜 清洁 装置 | ||
1.一种光罩护膜清洁装置,其特征在于,所述装置至少包括:
用于承载光罩护膜的底座;位于该底座及所述光罩护膜两侧的滑轨;与所述每个滑轨匹配的滑块;连接于所述滑块之间且位于所述光罩护膜正上方的除尘模块及扫描探测模块;所述两个滑轨的同一端分别设有凹槽,所述凹槽中嵌有挡板;
所述除尘模块上设有进气口以及若干出气口;所述进气口连接有进气管路;所述扫描探测模块至少包括:线传感器、散射光接收透镜以及激光束;
所述底座上设有将所述光罩护膜、滑轨、滑块、除尘模块及扫描探测模块容纳其中的集气罩;所述集气罩与所述底座接触区域设有密封圈;所述集气罩上表面设有排气孔。
2.根据权利要求1所述的光罩护膜清洁装置,其特征在于:所述进气管路上安装有流量调节阀。
3.根据权利要求1所述的光罩护膜清洁装置,其特征在于:所述光罩护膜由位于光罩表面的支撑结构支撑且位于光罩表面的上方。
4.根据权利要求3所述的光罩护膜清洁装置,其特征在于:所述两个滑轨设有凹槽的同一端为光罩的进出端。
5.根据权利要求4所述的光罩护膜清洁装置,其特征在于:所述除尘模块的位置较所述扫描探测模块靠近于所述光罩的进出端。
6.根据权利要求1所述的光罩护膜清洁装置,其特征在于:所述其中至少一个滑块由电子驱动而滑动于所述滑轨。
7.根据权利要求1所述的光罩护膜清洁装置,其特征在于:所述除尘模块的形状为条形状,且所述进气口位于其上背离光罩护膜的一侧;所述出气口位于其上靠近光罩护膜的一侧。
8.根据权利要求7所述的光罩护膜清洁装置,其特征在于:所述除尘模块上的若干出气口沿其长度方向呈一列排列。
9.根据权利要求1所述的光罩护膜清洁装置,其特征在于:设于所述集气罩上的排气孔有两个;且分别对应地接近于所述凹槽。
10.根据权利要求2所述的光罩护膜清洁装置,其特征在于:所述进气管路中进入的气体包括氮气或去离子气体。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备





