[实用新型]切刀单元真空配气系统有效

专利信息
申请号: 201520093175.1 申请日: 2015-02-10
公开(公告)号: CN204568951U 公开(公告)日: 2015-08-19
发明(设计)人: 和田昇 申请(专利权)人: 瑞光(上海)电气设备有限公司
主分类号: B65H35/00 分类号: B65H35/00
代理公司: 上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218 代理人: 翟羽
地址: 201815 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 单元 真空 系统
【权利要求书】:

1.一种切刀单元真空配气系统,包括同轴设置的砧辊和配气盘,所述砧辊通过砧辊辊轴可转动设置在框架上,所述配气盘固定安装,所述配气盘位于所述砧辊的配气侧,所述砧辊上的配气侧设有轴向真空吸气孔,在所述砧辊的圆周面上设有径向真空吸气孔,所述轴向真空吸气孔与径向真空吸气孔连通,所述配气盘上的配气孔将所述轴向真空吸气孔和真空吸管连接,所述配气盘呈环形,其特征在于:在所述砧辊辊轴上设置定位夹具,所述定位夹具通过支撑轴承与所述配气盘的内圆周面连接,所述定位夹具通过在所述砧辊辊轴上的定位调整实现所述配气盘与所述砧辊配气侧之间的可调安装距离。

2.根据权利要求1所述的切刀单元真空配气系统,其特征在于:在所述框架上设置配气盘托架,所述配气盘托架与所述配气盘的外表面固定连接。

3.根据权利要求1所述的切刀单元真空配气系统,其特征在于:所述定位夹具由一个横段圆环和一个竖段圆环组成,截面呈T字形,所述横段圆环位于所述砧辊的配气侧一侧,所述支撑轴承设置在所述横段圆环上。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的切刀单元真空配气系统,其特征在于:所述配气盘的侧端面设置凸环,所述砧辊的配气侧设置与所述凸环相配合的凹槽。

5.根据权利要求1至3中任一项所述的切刀单元真空配气系统,其特征在于:所述配气盘的侧端面设置凹槽,所述砧辊的配气侧设置与所述凹槽相配合的凸环。

6.根据权利要求1至3中任一项所述的切刀单元真空配气系统,其特征在于:所述配气盘的侧端面设置凸环和凹槽,所述砧辊的配气侧设置与所述凸环和凹槽相配合的凹槽和凸环。

7.根据权利要求1至3中任一项所述的切刀单元真空配气系统,其特征在于:所述砧辊上的轴向真空吸气孔均匀排列在与所述砧辊同轴的一个圆周上,每个轴向真空吸气孔上连接若干个径向真空吸气孔。

8.根据权利要求7所述的切刀单元真空配气系统,其特征在于:所述每一个轴向真空吸气孔与径向真空吸气孔之间呈一个角度。

9.根据权利要求7所述的切刀单元真空配气系统,其特征在于:所述配气盘内设置真空分配槽和吹气孔,所述吹气孔连通至所述砧辊的轴向真空吸气孔。

10.根据权利要求1至3中任一项所述的切刀单元真空配气系统,其特征在于:所述砧辊工作时的线速在250至500m/min。

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