[实用新型]一种晶体吸盘装置有效

专利信息
申请号: 201520087469.3 申请日: 2015-02-09
公开(公告)号: CN204591973U 公开(公告)日: 2015-08-26
发明(设计)人: 章仁上 申请(专利权)人: 德清晶生光电科技有限公司
主分类号: F16B47/00 分类号: F16B47/00
代理公司: 北京方圆嘉禾知识产权代理有限公司 11385 代理人: 董芙蓉
地址: 313000 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 晶体 吸盘 装置
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及晶体加工领域,特别指一种晶体吸盘装置。

背景技术

晶体片是常用的一种材料,经常用来做眼镜镜片,晶体片在生产加工过程中要进行研磨抛光,研磨抛光之后,需要对晶体片进行倒角,在加工的时候需要对晶体片进行固定,因为晶体片是薄片状结构,一般的工装难以对其进行夹持,而且夹紧力过大的情况会使得晶体片碎裂。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是针对上述现有技术的不足,提供一种结构简单,使用方便快捷,吸附稳定牢固的晶体吸盘装置。

本实用新型采取的技术方案如下:一种晶体吸盘装置,包括吸盘体、吸孔、导气槽及环形吸槽,其中,上述吸盘体为圆柱体结构,吸孔设置在吸盘体上,并贯穿吸盘体;上述环形槽包括至少二个,各环形槽间隔设置在吸盘体的顶面,并向下凹陷,形成晶体吸附面,以便吸附晶体;上述导气槽设置在吸盘体的顶面,导气槽连接吸孔及环形吸槽,吸孔连接外设的真空发生器及气泵,以便将吸附面上的空气走,形成负压。

优选地,所述的吸孔设置在吸盘体的中央位置,与吸盘体同轴心。

优选地,所述的导气槽由相互垂直的两个长条状槽体交叉形成为十字形槽体,导气槽的交叉点与吸孔重叠,使吸孔与导气槽连通。

优选地,所述的环形吸槽包括至少二个,各环形吸槽沿吸盘体的径向方向,由内而外依此间隔设置,且同圆心。

优选地,所述的导气槽的两个长条状槽体向两侧延伸至外侧的环形槽体内,以便使各环形槽体与吸孔连通。

优选地,所述的吸孔的两端分别延伸至吸盘体的顶面及底面,吸孔的底端设有接气管,接气管的上端与吸孔连接,下端连接有气管,气管连接在外设的真空发生器及气泵。

本实用新型的有益效果在于:

本实用新型是针对现有技术的一种改进技术方案,通过设计一种吸盘装置,该吸盘体结构为平面圆盘结构,该结构上表面上依次等间距开有围绕圆盘轴心线的环形吸槽,且圆盘上表面轴心线位置处开有垂直贯穿圆盘上表面的通气孔,且圆盘上表面上开有十字形槽,该十字形槽的交叉点为通气孔,十字形槽位于最大环形槽之内,且与所有环形槽相连通,圆盘上的通气孔连接有真空发生器,发生器与气泵连接,将晶体片放置在圆盘上,在真空发生器的作用下,圆盘上环形槽和十字形槽内的空气被抽空,晶体片被牢牢吸住,该装置使用简单,工作效率高。

附图说明

图1为本实用新型的立体结构示意图之一。

图2为本实用新型的立体结构示意图之二。

图3为本实用新型的俯视图。

图4为图3的主视图。

具体实施方式

下面将结合附图对本实用新型作进一步描述:

如图1至图4所示,本实用新型采取的技术方案如下:一种晶体吸盘装置,包括吸盘体1、吸孔2、导气槽3及环形吸槽4,其中,上述吸盘体1为圆柱体结构,吸孔2设置在吸盘体1上,并贯穿吸盘体1;上述环形槽4包括至少二个,各环形槽4间隔设置在吸盘体1的顶面,并向下凹陷,形成晶体吸附面,以便吸附晶体;上述导气槽3设置在吸盘体1的顶面,导气槽3连接吸孔2及环形吸槽4,吸孔2连接外设的真空发生器及气泵,以便将吸附面上的空气走,形成负压。

吸孔2设置在吸盘体1的中央位置,与吸盘体1同轴心。

导气槽3由相互垂直的两个长条状槽体交叉形成为十字形槽体,导气槽3的交叉点与吸孔2重叠,使吸孔2与导气槽3连通。

环形吸槽4包括至少二个,各环形吸槽4沿吸盘体1的径向方向,由内而外依此间隔设置,且同圆心。

导气槽3的两个长条状槽体向两侧延伸至外侧的环形槽体4内,以便使各环形槽体4与吸孔2连通。

吸孔2的两端分别延伸至吸盘体1的顶面及底面,吸孔2的底端设有接气管5,接气管5的上端与吸孔2连接,下端连接有气管,气管连接在外设的真空发生器及气泵。

进一步,本实用新型通过设计一种吸盘装置,该吸盘体结构为平面圆盘结构,该结构上表面上依次等间距开有围绕圆盘轴心线的环形吸槽,且圆盘上表面轴心线位置处开有垂直贯穿圆盘上表面的通气孔,且圆盘上表面上开有十字形槽,该十字形槽的交叉点为通气孔,十字形槽位于最大环形槽之内,且与所有环形槽相连通,圆盘上的通气孔连接有真空发生器,发生器与气泵连接,将晶体片放置在圆盘上,在真空发生器的作用下,圆盘上环形槽和十字形槽内的空气被抽空,晶体片被牢牢吸住,该装置使用简单,工作效率高。

本实用新型的实施例只是介绍其具体实施方式,不在于限制其保护范围。本行业的技术人员在本实施例的启发下可以作出某些修改,故凡依照本实用新型专利范围所做的等效变化或修饰,均属于本实用新型专利权利要求范围内。

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