[实用新型]一种新型PECVD车间卸片工字形吸盘头

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种PECVD车间卸片吸盘，尤其涉及一种新型PECVD车间卸片工字形吸盘头。

背景技术

目前，晶体硅太阳能电池片正朝着提高单位时间效率、降低生产成本的方向发展，而现在的PECVD设备镀膜后需要使用吸盘进行卸片，以致出现吸盘印、划痕等需返工异常片，这不符合晶体硅太阳能电池片的发展要求。

究其原因，上述缺陷的产生主要是因为吸盘吸附硅片时，其与硅片的接触面积较大，使得吸盘与硅片的摩擦面大从而造成吸盘印、划痕严重，这大大增加了因需要返工的成本，且影响了产能。硅片上出现吸盘印、划痕，这会造成镀膜效果不佳，不能满足客户的需要。具有吸盘印、划痕的硅片，如果下传，都要记为等外片低价出售，如果挑出就要返工，会增加生产成本。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种结构简单、可大大降低吸盘印出现的几率、确保镀膜效果、降低生产成本的新型PECVD车间卸片工字形吸盘头。

本实用新型的目的通过以下的技术措施来实现：一种新型PECVD车间卸片工字形吸盘头，包括块状的吸盘头，在所述吸盘头内设有外接抽真空设备的抽真空管路，所述吸盘头具有用于贴附在硅片上的吸附面，在所述吸附面上设有吸附槽，所述吸附槽的槽底开设有抽气孔，所述抽真空管路与抽气孔相通，其特征在于：所述吸附槽为工字形，所述吸附槽的边缘靠近所述吸盘头的吸附面的边沿。

本实用新型的吸附槽为工字形，且吸附槽的边缘靠近吸附面的边沿，一方面，由于扩大了吸附槽的面积，相对减小了吸盘头与硅片的接触面积，而且吸附时，减小了吸附槽内的压强，因此，吸盘吸附不会在硅片上留下吸盘印、划痕，所以，确保了镀膜效果，大大减少了镀膜硅片的返工，降低了生产成本；另一方面，工字形的吸附槽能够使得吸盘头与硅片具有足够的接触面积，保证吸附稳定，不掉片。

作为本实用新型的一种实施方式，所述吸附槽由两个竖向槽和位于二者之间的横向槽连通而成，所述抽气孔位于靠近吸盘头后端面的竖向槽中。

本实用新型所述竖向槽的两端轮廓为圆弧形。

本实用新型在所述吸盘头内开设孔道，孔道的一端贯穿吸盘头的后端面，孔道的另一端与所述抽气孔相通，用于与抽真空设备相连的抽真空钢管插入孔道中并伸至孔道与抽气孔的连通部位构成所述抽真空管路，在吸盘头的侧面穿入固定件以抵紧抽真空钢管将其固定。

与现有技术相比，本实用新型具有如下显著的效果：

本实用新型的吸附槽为工字形，且吸附槽的边缘靠近吸附面的边沿，一方面，由于扩大了吸附槽的面积，相对减小了吸盘头与硅片的接触面积，而且吸附时，减小了吸附槽内的压强，因此，吸盘吸附不会在硅片上留下吸盘印、划痕，所以，确保了镀膜效果，大大减少了镀膜硅片的返工，降低了生产成本；另一方面，工字形的吸附槽能够使得吸盘头与硅片具有足够的接触面积，保证吸附稳定，不掉片。

附图说明

下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步的详细说明。

图1是本实用新型的俯视局部剖视图；

图2是本实用新型的侧视局部剖视图。

具体实施方式

如图1、2所示，是本实用新型一种新型PECVD车间卸片工字形吸盘头，包括矩形块状的吸盘头1，在吸盘头1内设有外接抽真空设备的抽真空管路2，吸盘头1具有用于贴附在硅片上的吸附面11，在吸附面11上设有吸附槽12，吸附槽12的槽底开设有抽气孔13，抽真空管路2与抽气孔13相通，吸附槽12为横向的工字形，吸附槽12的边缘靠近吸盘头1的吸附面11的边沿。吸附槽12由两个竖向槽和位于二者之间的横向槽连通而成，竖向槽的两端轮廓为圆弧形，抽气孔13位于靠近吸盘头1后端面的竖向槽中。

在吸盘头1内开设孔道，孔道的一端贯穿吸盘头1的后端面，孔道的另一端与抽气孔13相通，用于与真空设备相连的抽真空钢管插入孔道中并伸至孔道与抽气孔的连通部位构成抽真空管路2，在吸盘头1的侧面开有与孔道相通的螺纹孔14，固定件采用螺丝穿入螺纹孔14中以抵紧抽真空钢管将其固定。

本实用新型的工作原理是：吸附槽为工字形，且吸附槽的边缘靠近吸附面的边沿，一方面，由于扩大了吸附槽的面积，相对减小了吸盘头与硅片的接触面积，吸盘头与硅片的摩擦面小，而且吸附时，减小了吸附槽内的压强，因此，即使出现摩擦也不会损伤硅片的镀膜面，吸盘吸附不会在硅片上留下吸盘印、划痕；另一方面，工字形的吸附槽能够使得吸盘头与硅片具有足够的接触面积，保证吸附稳定，不掉片。

本实用新型的实施方式不限于此，根据本实用新型的上述内容，按照本领域的普通技术知识和惯用手段，在不脱离本实用新型上述基本技术思想前提下，本实用新型还可以做出其它多种形式的修改、替换或变更，均落在本实用新型权利保护范围之内。