[发明专利]一种OLED器件及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及OLED显示技术领域，尤其涉及一种OLED器件及其制造方 法。

背景技术

随着发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode，OLED)技术的发展，OLED 良好的发光特性、低能耗等特点，使得OLED在显示、照明领域中得到了广泛 应用。

目前，OLED的发光原理基于其中的有机发光层，当有电流通过时，有机 发光层内的有机发光材料可发光。有机发光材料通常包含：蓝光(Blue，B) 材料、绿光(Green，G)材料以及红光(Red，R)材料。从而，OLED器件 可以发出三种颜色的光。

具体而言，如图1所示，为OLED器件的结构剖视图，示出了3种颜色的 像素，基于如图1所示的结构，OLED的原理为：当电力供应至适当电压时， 由阴极Cathode发出电子，经电子传输层ETL进入不同像素的有机发光层(有 机发光层包括：分别填充有三种有机发光材料的有机发光层EML-B、EML-G 以及EML-R)，由阳极(图1中的阳极的材料为银Ag)在一定电压的作用下， 在空穴注入层HIL中形成空穴，并通过空穴传输层HTL向有机发光层中传输 空穴，使得有机发光层中的电子迁移至空穴中，从而使像素发光。然而，由于 空穴注入层HIL(也包括公共空穴注入层HIL-Common)的导电性较强，那么， 若要控制OLED器件只发出一种颜色的光时，电流会通过公用空穴注入层 HIL-Common横向影响到其他颜色的像素，使得其他颜色的像素也发出一定程 度的光亮。

例如：在图1中，若要控制像素G发光，那么，针对像素G施加一定的 电压后，像素G的有机发发光层发出红光，但由于公共空穴注入层 HIL-Common的导电性强，那么，处于像素B和像素R位置的公共空穴注入层 HIL-Common中也会产生空穴，并注入至有机发光层中，使得像素B和像素R 发出微光。

现有技术中，为了解决上述单色发光场景下其他颜色像素微亮的现象，通 常会将空穴注入层HIL的材料替换为导电性较差的材料，或者，使用电子传输 层ETL代替HIL。

但是，现有技术中的方式将会改变OLED的器件性能，最终导致OLED 的显示效果受到影响。

发明内容

本发明实施例提供一种OLED器件及其制造方法，用以解决现有的避免 OLED器件在单色发光场景下其他颜色微亮的方式会影响OLED性能的问题。

本发明提供一种OLED器件，所述OLED器件中包含公用空穴注入层以 及不同种类的像素，不同种类的像素中包含阳极，所述公用空穴注入层分别与 各种类像素的阳极相连接，所述公用空穴注入层的厚度不超过设定阈值，使得 所述公用空穴注入层的电阻大于设定电阻值。

进一步地，所述公用空穴注入层的厚度为1～100nm。

进一步地，所述阳极包括：金属极板、介质层、透明导电层；

所述介质层用于传输由像素发出的光，该介质层设于所述金属极板表面， 由所述透明导电层覆盖所述介质层。

进一步地，不同种类像素的阳极中的所述介质层厚度分别与不同像素所发 出的光的光程相匹配。

进一步地，所述介质层的面积大于该介质层所在像素中有机发光层的面积。

进一步地，所述介质层的材料包括：紫外光UV固化聚合物。

本发明还提供一种OLED器件的制造方法，所述方法包括：

提供不同种类像素的阳极；

在不同种类像素的阳极表面蒸镀形成厚度不超过设定阈值的公用空穴注 入层。

进一步地，形成厚度不超过设定阈值的公用空穴注入层，具体包括：

形成厚度为1～100nm的公用空穴注入层。

进一步地，提供不同种类像素的阳极，具体包括：

针对任一像素提供金属极板；

在该像素的金属极板的其中一表面上设置介质层；

在该像素的介质层上设置透明导电层，形成该像素的阳极。

进一步地，在该像素的金属极板的其中一表面上设置介质层，具体包括：

提供含有紫外光UV固化聚合物的混合溶剂；

将所述混合溶剂闪蒸在该像素的金属极板的其中一表面上形成介质膜；

使用UV光照将介质膜固化形成介质层。