[发明专利]一种PCB垂直连续电镀专用镀铜溶液在审
| 申请号: | 201511015981.8 | 申请日: | 2015-12-31 |
| 公开(公告)号: | CN105568326A | 公开(公告)日: | 2016-05-11 |
| 发明(设计)人: | 曾高明 | 申请(专利权)人: | 深圳市鑫鸿顺科技有限公司 |
| 主分类号: | C25D3/38 | 分类号: | C25D3/38 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 518000 广东省深圳市宝安区沙*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 pcb 垂直 连续 电镀 专用 镀铜 溶液 | ||
技术领域
本发明属于化学镀铜技术领域,具体地说是指一种PCB垂直连续电镀专用镀铜溶 液。
技术背景
随着电子信息产业的飞速发展,带动着线路板行业的迅速扩大。PCB作为电子产品 最核心的一个部分,从设计到生产再到集成是一个非常复杂的过程,而电镀铜更是PCB制作 过程中最重要环节,也是线路板厂商必需选择的表面处理工艺,市场份额巨大;线路板朝着 高密度互联(HDI)发展,孔径比越来越高,要求镀铜贯孔性更加优秀,在已往大家通过降低 电流密度,采用脉冲电镀等方式来满足高贯孔性,高填孔性要求,但势必会降低生产效率, 并增大物耗,现有的MN型镀铜光泽剂不能保证高纵横比板的贯孔性及盲孔高填孔性要求, 而且得到的镀铜层均镀能力差、不平整、延展性差,特别是光泽性比较差。
发明内容
本发明针对以上技术问题而提供一种PCB垂直连续电镀专用镀铜溶液,弥补传统 MN型光泽剂不足之处,既满足高电流密度生产,也保证高纵横比板优秀的贯孔性及盲孔高 填孔性要求。
本发明采用的技术方案如下:一种PCB垂直连续电镀专用镀铜溶液,其特征在于, 所述溶液各组分及其含量为:
H2SO4:80-240g/L
CuSO4·5H2O:60-250g/L
氯离子:50-80ppm
整平剂:1.6-2.0ppm
抑制剂:100-200ppm
湿润剂:80-180ppm
加速剂:10ppm
水:余量。
优选地,所述溶液还包括有硫基咪唑丙磺酸钠,其组分含量为1.2-1.6ppm。
优选地,所述溶液各组分及其含量为,H2SO4:180-240g/L、CuSO4·5H2O:60- 90g/L、氯离子:50-80ppm、抑制剂100ppm、湿润剂80ppm、加速剂10ppm、整平剂1.6ppm、硫基 咪唑丙磺酸钠:1.2ppm,余量为水。
优选地,所述溶液各组分及其含量为,H2SO4:80-100g/L、CuSO4·5H2O:150- 250g/L、氯离子:50-80ppm、抑制剂200ppm、湿润剂180ppm、加速剂10ppm、整平剂2.0ppm、硫 基咪唑丙磺酸钠:1.6ppm,余量为水。
优选地,所述溶液各组分及其含量为,H2SO4:200-220g/L、CuSO4·5H2O:70- 85g/L、氯离子:66-73ppm、抑制剂120ppm、湿润剂170ppm、加速剂10ppm、整平剂1.82ppm、硫 基咪唑丙磺酸钠:1.6ppm,余量为水。
优选地,所述溶液各组分及其含量为,H2SO4:85-92g/L、CuSO4·5H2O:170- 180g/L、氯离子:70ppm、抑制剂160ppm、湿润剂120ppm、加速剂10ppm、整平剂1.78ppm、硫基 咪唑丙磺酸钠:1.3ppm,余量为水。
优选地,所述溶液各组分及其含量为,H2SO4:90-210g/L、CuSO4·5H2O:87- 170g/L、氯离子:60-65ppm、抑制剂121-173ppm、湿润剂90-170ppm、加速剂10ppm、整平剂 1.7-1.9ppm、硫基咪唑丙磺酸钠:1.4ppm,余量为水。
优选地,所述整平剂为聚氯化N-乙烯基-N′-丙磺酸咪唑-N-丙烯酸丁脂,所 述抑制剂为聚乙二醇8000,所述湿润剂为脂肪氨聚氧乙烯醚,所述加速剂为聚二硫二丙烷 磺酸钠。
本发明专用于PCB垂直连续电镀,可以实现不同深径比的孔洞的完美电镀,具有很 好地均度能力和分散能力,而且本发明的溶液性能稳定、使用寿命长,镀铜层平整、延展性 好、良好的光泽、韧性高。
具体实施方式
为了便于理解,下面结合具体的实施方式对本发明作进一步地说明,但并不在于 限定本发明的保护范围。
表1为本发明的各实施例的配方组分
表1各实施例的配方组分
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