[发明专利]一种腔体谐振抑制结构

权利要求书

1.一种腔体谐振抑制结构，主要应用于半封闭式腔体中，其特征在于：所述腔体谐振抑制结构具有一个非接触式盖板，所述盖板覆盖在具有一缺口部的半封闭式腔体的缺口部上方，与所述半封闭式腔体部分实现电接触，且所述盖板还具有延伸至半封闭式腔体的外腔壁外侧的延伸部，且延伸部不与半封闭式腔体电接触。

2.根据权利要求1所述的腔体谐振抑制结构，其特征在于：所述盖板为依据半封闭腔体缺口部结构形状而成的金属片，该金属片与半封闭腔体通过螺栓锁紧或焊接电连接，金属片边缘设有与螺栓或焊接相吻合的内凹弧。

3.根据权利要求1所述的腔体谐振抑制结构，其特征在于：所述盖板向缺口部后方延伸至半封闭腔体外腔壁外侧的延伸部的长度为半封闭腔体工作频率的八分之一到二分之一波长。

4.根据权利要求1所述的腔体谐振抑制结构，其特征在于：所述盖板延伸方向包括横向和纵向方向，且横向方向沿半封闭腔体侧壁折弯延伸。

5.根据权利要求1所述的腔体谐振抑制结构，其特征在于：所述盖板与半封闭腔体外腔壁外侧之间设有一层绝缘隔膜，所述绝缘隔膜的形状与盖板外围形状相当，即呈“凹”字形，并略大于所述盖板与半封闭腔体的非接触平面外边缘处。

6.根据权利要求1或4所述的腔体谐振抑制结构，其特征在于：所述盖板的延伸部与半封闭式腔体外腔壁外侧之间的距离为0.1mm~1mm。

7.根据权利要求1所述的腔体谐振抑制结构，其特征在于：所述缺口部系由半封闭腔体的外腔壁表面一体冲压形成。