[发明专利]一种高光精洗复合清洗工艺在审
| 申请号： | 201511003683.7 | 申请日： | 2015-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN105543860A | 公开（公告）日： | 2016-05-04 |
| 发明（设计）人： | 李辉;李立良;胡俊;张欣欣;闵元元;卢加傲 | 申请（专利权）人： | 深圳市鑫承诺环保产业股份有限公司 |
| 主分类号： | C23G1/00 | 分类号： | C23G1/00;B08B3/12;B08B3/08 |
| 代理公司： | 深圳市精英专利事务所 44242 | 代理人： | 任哲夫 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 高光精洗 复合 清洗 工艺 | ||
1.一种高光精洗复合清洗工艺，其特征在于，所述工艺依次包括如下 步骤：水基清洗、真空切水、真空碳氢超声波清洗、蒸汽浴洗真空干燥。
2.如权利要求1所述的高光精洗复合清洗工艺，其特征在于，所述的 水基清洗、真空切水、真空碳氢超声波清洗的次数均为两次。
3.如权利要求2所述的高光精洗复合清洗工艺，其特征在于，所述的 水基清洗所用的清洗剂为环保水基清洗剂，所述环保水基清洗剂中的清洗成 分为表面活性剂。
4.如权利要求3所述的高光精洗复合清洗工艺，其特征在于，所述的 真空切水所用的清洗剂为碳氢切水剂。
5.如权利要求4所述的高光精洗复合清洗工艺，其特征在于，所述的 真空碳氢超声波清洗、蒸汽浴洗真空干燥所用的清洗剂都为碳氢清洗剂。
6.如权利要求5所述的高光精洗复合清洗工艺，其特征在于，所述的 水基清洗中第一次清洗的清洗剂浓度为5-10％。
7.如权利要求5所述的高光精洗复合清洗工艺，其特征在于，所述的 水基清洗中第二次清洗的清洗剂浓度为1-3％。
8.如权利要求5所述的高光精洗复合清洗工艺，其特征在于，所述的 真空切水的真空度为-80Kpa。
9.如权利要求5所述的高光精洗复合清洗工艺，其特征在于，所述的 真空碳氢超声波清洗的超声波频率40KHz。
10.如权利要求5所述的高光精洗复合清洗工艺，其特征在于，所述的 蒸汽浴洗真空干燥的干燥温度90-110℃。
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