[发明专利]印刷型发光显示器及其制备方法

权利要求书

1.一种印刷型发光显示器，包括TFT阵列基板，所述TFT阵列基板包括从 下往上依次设置的基板、TFT阵列、钝化层和平坦层，所述TFT阵列包括多个 TFT，所述TFT包括源/漏极和栅极，其特征在于，所述平坦层为疏水性平坦层， 所述疏水性平坦层上开设有子像素坑，且所述子像素坑的深度小于所述疏水性 平坦层的厚度；

所述子像素坑区域下方开设有与所述源/漏极相通的通孔；

所述子像素坑中依次设置有像素电极和发光层，所述发光层上设置有顶电 极，其中，所述像素电极通过所述通孔与所述源/漏极相连。

2.如权利要求1所述的印刷型发光显示器，其特征在于，所述子像素坑的 深度为1-3μm。

3.如权利要求1所述的印刷型发光显示器，其特征在于，所述疏水性平坦 层的厚度为2-5μm。

4.如权利要求1-3任一所述的印刷型发光显示器，其特征在于，所述发光 层包括有机发光层或量子点发光层。

5.如权利要求4所述的印刷型发光显示器，其特征在于，所述发光层还包 括电子注入层、电子传输层、空穴传输层和空穴注入层中的至少一层。

6.如权利要求1-3任一所述的印刷型发光显示器，其特征在于，所述TFT 为非晶硅TFT、多晶硅TFT或金属氧化物TFT中的一种。

7.如权利要求1-3任一所述的印刷型发光显示器，其特征在于，所述像素 电极为透明电极或金属电极，其中，所述透明电极包括导电金属氧化物。

8.一种印刷型发光显示器的制备方法，包括以下步骤：

提供TFT阵列基板，所述TFT阵列基板包括从下往上依次设置的基板、TFT 阵列、以及沉积在所述TFT阵列上的钝化层和疏水性平坦层，其中，所述TFT 阵列包括多个TFT，所述TFT包括源/漏极和栅极；

在所述疏水性平坦层上沉积光阻；

采用掩膜板对所述光阻进行曝光处理，所述曝光处理包括对用于制作子像 素坑的区域进行半曝光、对所述源/漏极上方用于制作连通所述源/漏极和所述 子像素坑的通孔区域进行全曝光；

对所述光阻的曝光区域进行显影处理，使得所述全曝光区域的光阻完全去 除、所述半曝光区域形成残留光阻层；

对所述显影处理的区域进行干法刻蚀，使得所述疏水性平坦层在半曝光区 域开口形成子像素坑、所述疏水性平坦层和所述钝化层在全曝光区域开口形成 通孔；

在所述子像素坑中沉积像素电极后，去除未经曝光显影处理的所述光阻；

在所述像素电极上制作发光器件。