[发明专利]具有使用不同互连层耦合的未对准金属线的互连结构、半导体芯片及布局有效

专利信息
申请号: 201511000698.8 申请日: 2015-12-28
公开(公告)号: CN105762110B 公开(公告)日: 2019-06-21
发明(设计)人: 廖忠志;陈炎辉 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L21/768 分类号: H01L21/768;H01L27/02
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 路勇
地址: 中国台湾新竹市*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 具有 使用 不同 互连 耦合 对准 金属线 结构 半导体 芯片 布局
【权利要求书】:

1.一种互连结构,其包括:

第一金属线,其形成于第一互连层中,在长度上大体上沿着第一方向延伸且在第一末端部分处结束;

第二金属线,其形成于所述第一互连层中,从第二末端部分开始,在长度上大体上沿着所述第一方向延伸且在所述第一方向上与所述第一金属线未对准,其中所述第一金属线与所述第二金属线在所述第一方向上的垂直投影不重叠;以及

第一连接结构,其将所述第一金属线耦合到所述第二金属线,

其中

所述第一连接结构包括形成于不同于所述第一互连层的第二互连层中的第一端到端部分,且与所述第一末端部分和所述第二末端部分重叠。

2.根据权利要求1所述的互连结构,其中

所述第一端到端部分为单镶嵌通孔。

3.根据权利要求1所述的互连结构,其中

所述第一连接结构进一步包括形成于不同于所述第一互连层和所述第二互连层的层中且耦合到所述第一端到端部分的额外部分。

4.根据权利要求3所述的互连结构,其中

所述额外部分具有矩形形状,其宽度跨越所述第一金属线的宽度和所述第二金属线的宽度。

5.根据权利要求1所述的互连结构,其中

所述第一端到端部分具有包括彼此相对的第一边缘和第二边缘的形状;

所述第一边缘具有第一拐角且所述第二边缘具有第二拐角;

所述第一拐角从大体上沿着所述第一方向弯曲到大体上沿着大体上正交于所述第一方向的第二方向;且

所述第二拐角从大体上沿着所述第一方向弯曲到大体上沿着所述第二方向。

6.根据权利要求5所述的互连结构,其中

所述第一边缘进一步具有第三拐角,且所述第二边缘进一步具有第四拐角;

所述第三拐角从大体上沿着所述第二方向弯曲到大体上沿着所述第一方向;且

所述第四拐角从大体上沿着所述第二方向弯曲到大体上沿着所述第一方向。

7.根据权利要求5所述的互连结构,其中

所述第一边缘和所述第二边缘的部分之间的沿着所述第一方向的宽度大体上不宽于所述第一末端部分和所述第二末端部分中的一者与经所述第一边缘和所述第二边缘的所述部分界定的所述形状的部分重叠的宽度。

8.根据权利要求5所述的互连结构,其进一步包括:

第三金属线,其形成于所述第一互连层中,所述第三金属线在长度上大体上沿着所述第一方向延伸且邻近于所述第一金属线和所述第二金属线中的一者,其中对应所述第一金属线和所述第二金属线中的一者且与经所述第一边缘和所述第二边缘的所述部分界定的所述形状的部分重叠的所述第一末端部分和所述第二末端部分中的一者在所述第一方向上不超出所述第三金属线。

9.根据权利要求1所述的互连结构,其进一步包括:

第三金属线,其形成于所述第一互连层中且邻近于所述第一金属线,且在长度上大体上沿着所述第一方向延伸;

第四金属线,其形成于所述第一互连层中且邻近于所述第二金属线,在长度上大体上沿着所述第一方向延伸且在所述第一方向上对准所述第三金属线;以及

第二连接结构,其使用不同于所述第一互连层和所述第二互连层的第三互连层将所述第三金属线耦合到所述第四金属线。

10.一种半导体芯片,其包括:

阵列单元,其包括:

第一金属线,其形成于第一互连层中且大体上沿着第一方向延伸;

存取电路,其经配置以存取所述阵列单元且包括:

第二金属线,其形成于所述第一互连层中且大体上沿着所述第一方向延伸,其中所述第一金属线与所述第二金属线在所述第一方向上的垂直投影不重叠;以及

第一连接结构,其使用不同于所述第一互连层的第二互连层将所述第一金属线耦合到所述第二金属线,

其中所述耦合的第一金属线、第二金属线与第一连接结构充当所述阵列单元的存取线。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201511000698.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top