[发明专利]抑制镀层锡须生长的电镀液及其应用在审

专利信息
申请号: 201510981574.6 申请日: 2015-12-23
公开(公告)号: CN105463523A 公开(公告)日: 2016-04-06
发明(设计)人: 冯正元;冯育华 申请(专利权)人: 苏州市金星工艺镀饰有限公司
主分类号: C25D3/30 分类号: C25D3/30;C25D3/32
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 柏尚春
地址: 215132 江*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 抑制 镀层 须生 电镀 及其 应用
【权利要求书】:

1.抑制镀层锡须生长的电镀液,其特征在于包括如下组成成分:体积比为5:1:2的甲基磺酸、乙酸、盐酸的混合溶液20-40份、可溶性四硫代钼酸锡8-12份、十二烷基硫酸盐12-15份、固色剂2-6份、分散剂3-8份、光亮剂3-5份、去杂掩蔽剂4-6份、表面活性剂1-3份,水20-30份,其中上述份数的计算方式为以质量进行计算。

2.根据权利要求1所述的抑制镀层锡须生长的电镀液,其特征在于:所述十二烷基硫酸盐为铵盐、钠盐、钾盐、钡盐中的一种。

3.根据权利要求1所述的抑制镀层锡须生长的电镀液,其特征在于:所述固色剂为环氧氯丙烷与氯化铵壳聚糖两者质量比为2:3的混合物。

4.根据权利要求1所述的抑制镀层锡须生长的电镀液,其特征在于:所述分散剂为聚丙烯酸与EDTA质量比为2:1-5:1的混合物。

5.根据权利要求1所述的抑制镀层锡须生长的电镀液,其特征在于:所述光亮剂为柠檬酸、椰子油酸、硅油、十二烷基聚葡萄糖苷的混合物,四种物质的质量比相应为2:2:1:3。

6.根据权利要求1所述的抑制镀层锡须生长的电镀液,其特征在于:所述去杂掩蔽剂为酸性化合物。

7.根据权利要求1所述的抑制镀层锡须生长的电镀液,其特征在于:所述表面活性剂为阴离子型表面活性剂。

8.一种权利要求1所述的抑制镀层锡须生长的电镀液的应用,其特征在于:往电镀槽内加入所需量三分之一的水,加入所需量的甲基磺酸、乙酸、盐酸的混合溶液、可溶性四硫代钼酸锡盐和十二烷基硫酸盐后,混合搅拌均匀静置60min后,按所需量依次加入固色剂、分散剂以及表面活性剂,混合搅拌均匀后静置20min后再加入所需量的去杂掩蔽剂和光亮剂以及余量的水,混合均匀,待用。

9.根据权利要求8所述的抑制镀层锡须生长的电镀液的应用,其特征在于:所述电镀液的使用pH环境为4.5-6.0。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州市金星工艺镀饰有限公司,未经苏州市金星工艺镀饰有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510981574.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top