[发明专利]一种涂布均匀的离型膜

说明书

技术领域

本发明涉及薄膜材料技术领域，尤其涉及一种涂布均匀的离型膜。

背景技术

离型膜是指表面具有分离性的薄膜,离型膜与特定的材料在有限的条件下接触后不具有粘性,或轻微的粘性。例如在底材PET薄膜上涂上一层硅油即可得到硅油型PET离型膜,该硅油的作用是降低PET薄膜表面的附者力,达到离型的效果。离型膜根据其离型力的大小分为轻离型离型膜、中离型离型膜和重离型离型膜。

离型膜的特点是表面平整、洁净度高，后续加工尺寸稳定，透明度及颜色可调整，薄膜的厚度与基材的种类可选择的范围广。利用离型膜这些特点可以向光学与电子领域的零部件的深加工发展，从而适应这一领域越来越多的自动化生产工艺过程。

离型膜的最终要求是实现在载体膜的物理性能满足要求的前提下获得稳定的离型力(在180度角度下，以300mm/min的剥离速度下所检测到的力值)。离型膜在与熔融的固体热熔胶表面、热固胶(主要应用挠性印制电路板FPC/软性铜箔基材FCCL/半固化片)做复合时，需要离型膜表面具有微弱粘性同时离型力要在300g/inch以上，较重的离型力能使胶的表面与离型面充分的粘附在一起，而微弱粘性又使得剥离力量不会太重。

但是由于离型膜上离型涂层涂布不均匀的原因，常常导致离型膜部分区域达不到离型要求，而导致离型膜与其接触物发生粘连。

发明内容

本发明的目的在于提供一种涂布均匀的离型膜，与现有技术相比，本发明提供的涂布均匀的离型膜能够均匀的覆盖全部基材表面，使得离型膜在与其接触表面分离时没有任何粘连。

本发明提供了一种涂布均匀的离型膜，包括基材层和离型层，其离型层由以下质量份数的物质组成：

优选的，所述离型层由以下质量份数的物质组成：

优选的，所述溶剂为溶剂TOL、溶剂D-40、溶剂D-30、溶剂MEK或溶剂IPA中的混合物，且溶剂TOL：溶剂D-40：溶剂D-30：溶剂MEK：溶剂IPA为42:21:8:21:4，该比例为质量比。

优选的，所述交联剂为含氢硅油。

优选的，所述硅树脂为乙烯基树脂。

优选的，所述固化剂为铂金。

优选的，所述基材层为聚对苯二甲酸乙二酯膜或者双向拉伸聚丙烯薄膜。

本发明提供的涂布均匀的离型膜的离型层采用独特配方制备，各组分互相配合，使得得到的离型层能够均匀的涂布于基材层上，进而使得得到的离型膜在与接触表面分离时不产生粘连。

具体实施方式

下面将结合本发明中的实施例，对本发明中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本发明提供了一种涂布均匀的离型膜，包括基材层和离型层，其离型层由以下质量份数的物质组成：

本发明提供的涂布均匀的离型膜的离型层包括35～50份溶剂。在本发明中，所述溶剂优选为40～48份，更优选为45份。在本发明中，所述溶剂优选为溶剂TOL、溶剂D-40、溶剂D-30、溶剂MEK或溶剂IPA中的混合物，更优选的溶剂TOL：溶剂D-40：溶剂D-30：溶剂MEK：溶剂IPA为42:21:8:21:4，该比例为质量比。

本发明提供的涂布均匀的离型膜的离型层包括15～25份乙烯基硅油。在本发明中，所述硅油优选为17～23份，更优选为19～21份。

本发明提供的涂布均匀的离型膜的离型层包括20～35份硅树脂。在本发明中，所述硅树脂优选为22～30份，更优选为25～28份。在本发明中，所述硅树脂优选为乙烯基树脂。

本发明提供的涂布均匀的离型膜的离型层包括1～2份离型剂。在本发明具体实施例中，所述离型剂可具体为1份、1.5份或2份。

本发明提供的涂布均匀的离型膜的离型层包括2～3份交联剂。在本发明具体实施例中，所述交联剂可具体为2份、2.5份或3份。在本发明中，所述交联剂优选为含氢硅油。

本发明提供的涂布均匀的离型膜的离型层包括2～3份固化剂。在本发明具体实施例中，所述固化剂可具体为2份、2.5份或3份。在本发明中，所述固化剂优选为铂金。

本发明提供的涂布均匀的离型膜的离型层包括3～5份离型力调节剂。在本发明具体实施例中，所述离型力调节剂可具体为3份、4份或5份。