[发明专利]一种涂布均匀的离型膜在审
| 申请号: | 201510926886.7 | 申请日: | 2015-12-14 |
| 公开(公告)号: | CN105419635A | 公开(公告)日: | 2016-03-23 |
| 发明(设计)人: | 方友 | 申请(专利权)人: | 广东弘擎电子材料科技有限公司 |
| 主分类号: | C09D183/07 | 分类号: | C09D183/07;C09D7/12;C08J7/04 |
| 代理公司: | 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 | 代理人: | 连平 |
| 地址: | 523000 广东省东莞市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 均匀 离型膜 | ||
1.一种涂布均匀的离型膜,包括基材层和离型层,其离型层由以下质量份数的物质组成:
2.根据权利要求1所述粘合剂,其特征在于,所述离型层由以下质量份数的物质组成:
3.根据权利要求1或2所述粘合剂,其特征在于,所述溶剂为溶剂TOL、溶剂D-40、溶剂D-30、溶剂MEK或溶剂IPA中的混合物,且溶剂TOL:溶剂D-40:溶剂D-30:溶剂MEK:溶剂IPA为42:21:8:21:4,该比例为质量比。
4.根据权利要求1或2所述粘合剂,其特征在于,所述交联剂为含氢硅油。
5.根据权利要求1或2所述粘合剂,其特征在于,所述硅树脂为乙烯基树脂。
6.根据权利要求1或2所述粘合剂,其特征在于,所述固化剂为铂金。
7.根据权利要求1或2所述粘合剂,其特征在于,所述基材层为聚对苯二甲酸乙二酯膜或者双向拉伸聚丙烯薄膜。
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C09D183-00 基于由只在主链中形成含硅的、有或没有硫、氮、氧或碳键反应得到的高分子化合物的涂料组合物;基于此种聚合物衍生物的涂料组合物
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C09D183-14 .其中至少两个,但不是所有的硅原子与氧以外的原子连接
C09D183-16 .其中所有的硅原子与氧以外的原子连接





