[发明专利]光掩模的制造方法以及显示装置的制造方法

说明书

光掩模的制造方法以及显示装置的制造方法，光掩模的制造方法能够对通过一次成膜而形成的光学膜准确地实施期望量的减膜，显示装置的制造方法使用了该光掩模。包含以下工序：准备在透明基板上涂覆光学膜和第1抗蚀剂膜而得到的光掩模基板的工序；形成第1抗蚀剂图案的工序；蚀刻去除光学膜的第1构图工序；剥离第1抗蚀剂图案并涂覆第2抗蚀剂膜的工序；形成第2抗蚀剂图案的工序；对光学膜进行蚀刻减膜的第2构图工序；以及剥离第2抗蚀剂图案的工序，以第2抗蚀剂图案中的透明基板的露出部分成为比第1抗蚀剂图案中的透明基板的露出部分小规定量的尺寸的方式，对第2描绘图案实施了尺寸减小。

技术领域

本发明涉及光掩模的制造方法以及显示装置的制造方法。

背景技术

公知具有遮光部、透光部以及光透射率分别不同的第1半透光部和第2半透光部的多色调的光掩模。

在专利文献1中记载了如下的4色调光掩模的制造方法：准备在透光性基板上依次形成由对彼此的蚀刻具有耐受性的材料构成的第1半透光膜和遮光膜而得的光掩模坯体，在对该遮光膜和第1半透光膜进行蚀刻后，形成第2半透光膜，进而进行蚀刻，形成透光部、遮光部、第1半透光部和第2半透光部。

此外，在专利文献2的制造4色调的光掩模的方法中，记载了如下的发明：通过对半透光膜的一部分区域实施与其它区域不同的表面处理，分别形成光透射率不同的第1、第2半透光部。

【专利文献1】日本特开2007-249198号公报

【专利文献2】日本特开2009-230126号公报

为了形成4色调以上的多色调光掩模，在专利文献1所记载的方法中，分别准备多个具有预先确定的光透射率的半透光膜，并依次进行蚀刻。在该方法中，根据期望的光透射率的组合，设定多个半透光膜的组成和膜厚，不仅需要实施复杂的成膜工序，而且有在成膜前只能形成预先设定的光透射率的膜的制约。

此外，要形成的层叠膜的光透射率实质上由构成其的一个个单膜决定，因此无法进行光透射率的微调。此外，所层叠的半透光膜彼此的界面产生光的作用，因此在计算作为结果而得到的光透射率时，预先进行预备实验等，产生验证的负担。

在专利文献2的制造方法中，通过半透光膜的减膜，以成为期望的光透射率的方式进行膜厚调整，由此，要针对光透射率差较小的第1、第2半透光部形成期望的光透射率差。但是，在减膜工序中，仅能够进行增大透射率的方向的调整，不能暂且将高于期望值的光透射率校正到较低一侧，因此，光透射率取决于怎样决定减膜工序的终点，不容易与目标的光透射率一致。

即，在该半透光部的光透射率调整中，认为理想的是，在减膜工序中，也能够进行准确的光透射率测量，从而准确地掌握光透射率到达目标值为止的减膜时间。

另外，在以液晶显示装置和有机EL(Electroluminescence：电致发光)显示装置为代表的显示装置中，关于明亮度、工作速度、节电、清晰性等，要求具有更高的品质。

在这些显示装置的制造中，例如为了形成使用了有机绝缘膜等感光性树脂的、接触孔等立体构造，使用了光掩模的光刻被有效地应用。特别是，在局部具有高度不同的部分的绝缘膜、和高度彼此不同的多个光学间隙控制材料(photo spacer)等要形成的立体构造变得复杂，并且为了有效生产这些构造，产生多色调的光掩模的需求。为了精确地形成这样的目的的光掩模的立体构造，重要的是管理所使用的光掩模的光透射率。

特别是，推断能够有利地利用4色调以上的光掩模(即，除了透光部、遮光部以外，还具备曝光光透射率彼此不同的第1、第2半透光部的多色调光掩模)。为了分别精确地形成这多个、具有彼此不同的透射率的半透光部，光透射率控制是关键。即，如果未准确地按照设计值形成第1半透光部和第2半透光部各自的光透射率，则在显示装置等最终的设备中，无法实现令人满意的功能。

发明内容