[发明专利]一种可喷墨印刷薄膜及其制备方法在审
| 申请号： | 201510926364.7 | 申请日： | 2015-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN105398249A | 公开（公告）日： | 2016-03-16 |
| 发明（设计）人： | 杨兴国;杨志方;鲁琴;王雪晴 | 申请（专利权）人： | 武汉华工图像技术开发有限公司 |
| 主分类号： | B41M5/52 | 分类号： | B41M5/52 |
| 代理公司： | 武汉东喻专利代理事务所(普通合伙) 42224 | 代理人： | 黎慧华 |
| 地址： | 430223 湖北省武汉市东*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 喷墨 印刷 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种可喷墨印刷薄膜，其特征在于，该薄膜包括基膜和涂覆于所述基膜表面的油墨接收层，该油墨接收层表面含有阵列状的凸出结构。
2.如权利要求1所述的薄膜，其特征在于，所述基膜为聚合物薄膜材料，所述材料选自优选自聚乙烯、聚丙烯、聚酯、聚氯乙烯。
3.如权利要求1所述的薄膜，其特征在于，所述油墨接收层是达因值大于38的聚合物涂层，所述聚合物涂层选自聚氧乙烯醚、聚丙烯酸酯、聚酯、聚酰胺，所述油墨接收层的厚度为0.1-10微米。
4.如权利要求1所述的薄膜，其特征在于，所述的凸出结构为三角形柱状、矩形柱状、多边形柱状，所述凸出结构的高度为0.1-2微米。
5.如权利要求1所述的薄膜，其特征在于，所述阵列为三角阵列、六角阵列，其周期为10-200微米。
6.一种上述可喷墨薄膜的制备方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：
(1)在所述基膜上涂布一层聚合物层作为油墨接收层；
(2)通过电子束刻蚀、激光直写、掩膜版光刻等方式制作微结构阵列的光刻胶版；
(3)通过电铸、复制制备含有所述凹结构阵列的金属母版；
(4)通过热压的方式将金属表面的微结构复制到所述基膜上，形成所述阵列状的凸出结构。
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