[发明专利]一种LTCC基板组件及其共晶烧结工艺方法有效
申请号: | 201510919650.0 | 申请日: | 2015-12-11 |
公开(公告)号: | CN106876267B | 公开(公告)日: | 2019-12-17 |
发明(设计)人: | 张群力;宋云乾;刘侨 | 申请(专利权)人: | 中国航空工业集团公司雷华电子技术研究所 |
主分类号: | H01L21/324 | 分类号: | H01L21/324;H01L23/15 |
代理公司: | 11008 中国航空专利中心 | 代理人: | 陆峰 |
地址: | 214063 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 ltcc 组件 及其 烧结 工艺 方法 | ||
1.一种LTCC基板组件的共晶烧结工艺方法,其特征在于:所述LTCC基板组件包括LTCC基板结构件(5)、预成型银锡焊料片(3)和LTCC基板(2),其中LTCC基板结构件(5)含有多个连接器的安装孔(4),LTCC基板(2)含有多个芯片安装槽,LTCC基板(2)、预成型银锡焊料片(3)共同装配至LTCC基板结构件(5)中,具体实施过程如下:
步骤1:根据需要共晶烧结的LTCC基板结构件(5)的结构图纸,加工出可对不同厚度共晶烧结产品提供固定压力、高精度定位,同时可以良好传热的弹性定位工装(1),弹性定位工装(1)需在LTCC基板结构件(5)上连接器的安装孔(4)位置预留高温保护阻焊胶涂覆位置;
步骤2:按LTCC基板结构件(5)相同的尺寸加工出厚度与弹性定位工装(1)压力匹配的预成型银锡焊料片(3);
步骤3:将步骤1所述的弹性定位工装(1)进行超声清洗留作备用;
步骤4:清洗LTCC基板结构件(5)、预成型银锡焊料片(3)及LTCC基板(2);
步骤5:依次将LTCC基板组件中LTCC基板结构件(5)、预成型银锡焊料片(3)和LTCC基板(2)放入弹性定位工装(1)中,构成产品件;
步骤6:通过弹性定位工装(1)底部的预留位置,对LTCC基板结构件(5)上连接器的安装孔涂覆耐高温保护阻焊胶;
步骤7:将步骤6所述的产品件放入烘箱中,进行100℃±5℃、30分钟左右烘干处理;
步骤8:将步骤7所述的产品件放入共晶烧结炉中,确保弹性定位工装(1)底部与共晶炉内部加热板充分接触;
步骤9:设置共晶烧结工艺曲线,实现步骤8所述产品件在一定焊接温度、真空度和工艺气体条件下的真空烧结;
步骤10:共晶烧结程序运行完毕后,待产品件温度降至60℃以下后,取出已完成共晶烧结的产品件。
2.如权利要求1所述的共晶烧结工艺方法,其特征在于:步骤9所述的设置共晶烧结工艺曲线方法具体过程如下:
1)程序最先对共晶炉腔室进行抽真空、充氮气、再抽真空再充氮气的步骤,充分清除腔室内的杂质气体和水氧气,充分净化共晶炉内部焊接氛围;
2)通过设置升温时间来控制石英灯管加热速率,将组件焊接温度以2℃/s升温至190℃,并在此温度保温3min,并在此阶段通入甲酸还原气体,进行焊料片及焊接部位的氧化物的充分还原;
3)通过抽真空除去上阶段还原后的杂质气体,并通入纯净的氮气保护气体,起到保护和传热介质的作用;
4)以3℃/S的速度迅速将温度升至250℃,并进行约90s的保温过程,同时在此过程进行抽真空处理,确保焊接氛围良好;
5)焊接面在进行250℃充分保温后进行流量大约为6slm/min速率的充氮气的处理,对焊接组件进行快速降温至180℃以下,防止老化;
6)改变氮气速率,进行慢速降温至80℃左右,完成焊接。
3.如权利要求1所述的共晶烧结工艺方法,其特征在于:步骤6所述的LTCC基板结构件(5)上连接器为毛纽扣。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国航空工业集团公司雷华电子技术研究所,未经中国航空工业集团公司雷华电子技术研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510919650.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种具有自动提示满箱状态的爱心捐衣箱
- 下一篇:一种具有力矩输出的角度传感器
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造