[发明专利]一种覆晶薄膜(COF)封装方法有效
| 申请号: | 201510908404.5 | 申请日: | 2015-12-09 | 
| 公开(公告)号: | CN105551987A | 公开(公告)日: | 2016-05-04 | 
| 发明(设计)人: | 石磊 | 申请(专利权)人: | 南通富士通微电子股份有限公司 | 
| 主分类号: | H01L21/60 | 分类号: | H01L21/60 | 
| 代理公司: | 北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙) 11435 | 代理人: | 孟阿妮;郭栋梁 | 
| 地址: | 226006 江*** | 国省代码: | 江苏;32 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 薄膜 cof 封装 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种半导体技术领域,尤其涉及一种覆晶薄膜(COF) 封装方法,特别涉及一种覆晶薄膜(COF)封装方法。
背景技术
随着集成电路技术的不断发展,电子产品越来越向小型化、智能 化以及高可靠性方向发展,而集成电路封装直接影响着集成电路、电 子模块乃至整机性能,在集成电路晶片尺寸逐步缩小、集成度不断提 高的情况下,电子工业对集成电路封装结束提出了越来越高的要求。
目前的芯片通过底填方式倒装在作为载体的柔性电路板(薄膜) 上,芯片与膜上覆盖的金属层通过金属柱相连,与外界电性连接。典 型的覆晶薄膜(COF)的方法流程包括:浇铸法制无胶FCCL、制作 精细线路、涂覆阻焊层、焊盘镀Ni/Au、IC安装、被动元件焊接(回 流焊)、LCD面板安装等步骤。
但在上述方法中,在芯片上制备较高的凸点(bump)时,存在 一些影响芯片制造良率的问题:
(1)凸点(bump)的高度控制IC芯片下方的凸点(bump)难 以控制其高度完全一致,高低不平易使芯片失效;
(2)在膜上生产凸点(bump)其制备方法较难。
发明内容
鉴于现有技术中的上述缺陷或不足,本发明提供一种覆晶薄膜 (COF)封装方法。
本发明提供了一种覆晶薄膜(COF)封装方法,包括:
提供一待封装芯片;
提供一待封装柔性电路板,并在所述柔性电路板金属层上形成多 个第一金属凸点;
在所述第一金属凸点上涂上异方向性导电胶柱;
将所述多个第一金属凸点和所述芯片功能区相向对应并通过所述 异方向性导电胶柱连接;
在所述芯片与所述柔性电路板之间用塑封底填料填充并形成塑封 体。
与现有技术相比,本发明提供的覆晶薄膜(COF)封装方法,既 能解决现有结构中凸点高度难以控制且其制备方法较难的问题,又能 降低成本,提高封装效率。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面 将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而 易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域 普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些 附图获得其他的附图。
图1为本发明提供的覆晶薄膜(COF)封装方法的一种实施例的 方法流程图;
图2-图6为图1提供的覆晶薄膜(COF)封装方法的一种实施例 的结构示意图。
图7为本发明提供的覆晶薄膜(COF)封装方法的另一种实施例 的方法流程图;
图8-图12为图7提供的覆晶薄膜(COF)封装方法的另一种实施 例的结构示意图。
附图标记:
1-芯片;2-柔性电路板;3-金属层;4-导电胶柱;
5-第一金属凸点;6-第二金属凸点;7-焊盘;8-塑封体。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本申请作进一步的详细说明。可以理解 的是,此处所描述的具体实施例仅仅用于解释相关发明,而非对该发 明的限定。另外还需要说明的是,为了便于描述,附图中仅示出了与 发明相关的部分。
需要说明的是,在不冲突的情况下,本申请中的实施例及实施例 中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本 申请。
第一实施例:
如图1,本实施例提供了一种覆晶薄膜(COF)封装方法,包括:
S10:提供一待封装芯片;
S20:提供一待封装柔性电路板,并在柔性电路板金属层上形成多 个第一金属凸点;
S30:在第一金属凸点上涂上异方向性导电胶柱;
S40:将多个第一金属凸点和芯片功能区相向对应并通过异方向性 导电胶柱连接;
S50:在芯片与柔性电路板之间用塑封底填料填充并形成塑封体。
首先,执行步骤S10,如图2所示,提供一待封装芯片1;
执行步骤S20,如图3所示,提供一待封装柔性电路板2,并在柔 性电路板2金属层3上形成多个第一金属凸点5;
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





