[发明专利]等离子体处理系统中的惰性主导脉冲

权利要求书

1.一种用于在等离子体处理系统的等离子体处理腔室中使用原子层蚀刻 进行蚀刻的方法，所述等离子体处理腔室具有至少一个等离子体产生源和向 所述等离子体处理腔室的内部区域提供处理气体的至少气体源，所述方法包 括提供多个循环，其中每个循环包括：

使包含反应气体和惰性气体的第一气体流入所述处理腔室内；

提供第一射频信号以使所述第一气体形成为第一等离子体；

停止使所述第一气体流入所述处理腔室内；

使第二气体流入所述处理腔室内，其中所述第二气体基本上由所述惰性 气体构成；

提供不同于所述第一射频信号的第二射频信号以使所述第二气体形成为 第二等离子体；以及

停止使所述第二气体流入所述处理腔室内。

2.如权利要求1所述的方法，其还包括使由所述第一气体形成的所述第 一等离子体稳定。

3.如权利要求2所述的方法，其中，每个循环还包括使第三气体流入所 述处理腔室内以及停止使所述第三气体流入所述处理腔室内。

4.如权利要求3所述的方法，其中，所述第三气体具有与所述第一气体 和所述第二气体的反应气体比惰性气体的比率不同的反应气体比惰性气体的 比率。

5.如权利要求4所述的方法，其中，所述第二气体的流是在停止所述第 一气体的流之后提供。

6.如权利要求5所述的方法，其中，所述第二射频信号具有与所述第一 射频信号不同频率的射频信号，并且其中所述第一射频信号的频率和所述第 二射频信号的频率是预定的。

7.如权利要求5所述的方法，其中，所述第一气体具有不同于所述第二 气体的压力。

8.如权利要求7所述的方法，其中，停止所述第一气体的流和停止所述 第二气体的流的步骤包括在维持所述惰性气体的流的同时停止所述反应气体 的流。

9.如权利要求1所述的方法，其中，每个循环还包括使第三气体流入所 述处理腔室以及停止所述第三气体流入所述处理腔室。

10.如权利要求9所述的方法，其中，所述第三气体具有与所述第一气 体和所述第二气体的反应气体比惰性气体的比率不同的反应气体比惰性气体 的比率。

11.如权利要求1所述的方法，其中，所述第二气体的流是在停止所述 第一气体的流之后提供。

12.如权利要求1所述的方法，其中，所述第二射频信号具有与所述第 一射频信号不同频率的射频信号，并且其中所述第一射频信号的频率和所述 第二射频信号的频率是预定的。

13.如权利要求1所述的方法，其中，所述第一气体具有不同于所述第 二气体的压力。

14.如权利要求1所述的方法，其中，停止所述第一气体的流和停止所 述第二气体的流的步骤包括在维持所述惰性气体的流的同时停止所述反应气 体的流。

15.如权利要求1所述的方法，其中，所述第一气体是通过将所述反应 气体的流与所述惰性气体的流混合而形成的。

16.如权利要求15所述的方法，其中，所述反应气体的流和所述惰性气 体的流是在流入气体腔室内之前被混合的，从而使所生成的混合物流入所述 气体腔室。

17.如权利要求15所述的方法，其中，所述第二气体是通过停止所述反 应气体的流而不停止所述惰性气体的流来形成的。

18.如权利要求17所述的方法，其还包括增加惰性气体的流的步骤，以 至少部分补偿由停止所述反应气体的流所导致的压力降。

19.如权利要求1所述的方法，其中在所述第一气体中的惰性气体的量 比反应气体的量的比率为至少1:9。

20.如权利要求1所述的方法，其中在所述第一气体中的惰性气体的量 比反应气体的量的比率为至少3:7。