[发明专利]半导体装置在审

专利信息
申请号: 201510883645.9 申请日: 2015-12-04
公开(公告)号: CN105742267A 公开(公告)日: 2016-07-06
发明(设计)人: 武田博充 申请(专利权)人: 瑞萨电子株式会社
主分类号: H01L23/498 分类号: H01L23/498
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 李罡;陆锦华
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 装置
【说明书】:

技术领域

本发明涉及半导体装置,特别是涉及有效地应用于在布线基板上搭载了半导体芯片的半导体装置中的技术。

背景技术

在日本特开2005-79129号公报(专利文献1)的摘要中公开有如下的塑料封装10,该塑料封装10具有使不与镀敷引线16连结的多个第二导体布线图案17a短路的第一引线18、连接第一引线18的连线19以及通过第二引线18a与镀敷引线16连结的第一导体布线图案17。并且,公开了如下内容:通过在将第一导体布线图案17与连线19连接的状态下进行电解镀敷,从而隔着第一导体布线图案17在第二导体布线图案17a上形成电解镀敷覆膜15;以及在形成电解镀敷覆膜15之后,通过削除部21削除连线19而使多个第二导体布线图案17a之间断线。

在日本特开2014-82299号公报(专利文献2)的(0010)段落和(0012)段落中公开有如下的内容:为了防止回蚀槽(对应于专利文献1的“削除部21”)横穿半导体芯片时产生的半导体芯片的裂纹,在半导体芯片的内部区域中对横穿半导体芯片的回蚀槽进行分割。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2005-79129号公报

专利文献2:日本特开2014-82299号公报

本申请发明人对BGA(BallGridArray,球栅阵列)型的半导体装置进行了研究,发现了以下的问题。

本申请发明人研究的BGA(BallGridArray,球栅阵列)型的半导体装置具有:布线基板;搭载在布线基板的上表面的半导体芯片;形成在布线基板的上表面的上表面布线和多个键合区;连接半导体芯片的键合焊盘与键合区的多个导线;以及覆盖布线基板的上表面、半导体芯片以及多个导线的密封体。而且,半导体装置具有设置在布线基板的下表面的多个球栅、与多个球栅连接的焊球。在多个键合区和多个球栅的表面上,虽然通过电解镀敷法而形成有镍和金的镀膜,但是与专利文献1或2同样,在形成镀膜之后,通过削除部(回蚀槽、开口部)削除了连线。并且,削除部配置在布线基板的下表面的没有配置有球栅的区域,各个削除部为长方形,其长边沿着布线基板的边而延伸。削除部(回蚀槽)的配置与专利文献2不同,配置在半导体芯片的内部区域或外部区域,不构成横穿半导体芯片的边的结构。

根据本申请发明人的研究,在对半导体装置实施的温度循环测试中,可知产生布线基板的上表面布线断线的问题。此处,温度循环测试是,评价半导体装置是否能承受在储存中、输送中或使用中有可能会遭遇到的温度变化的可靠性测试,在半导体装置中以预定次数(循环)交替地施加最低温度和最高温度。在1循环中,使半导体装置的保存温度按照常温、最低温度、常温、最高温度、常温的顺序变化。并且,在温度循环测试中,例如,以最低温度为-60℃、最高温度为150℃、300循环的条件实施。

另外,布线基板由芯层、形成在芯层的两面(上表面和下表面)的上表面布线和下表面布线、覆盖上表面布线和下表面布线的阻焊膜构成,在布线基板的下表面上设置有作为阻焊膜的开口的长方形的削除部。

在上述的温度循环测试中,虽然布线基板和半导体芯片膨胀、收缩重复,但是布线基板与半导体芯片的热膨胀系数不同,因此在布线基板上产生应力。并且,该应力集中在长方形的削除部的角部而在角部的阻焊膜上产生裂纹。接着,沿着长方形的削除部的长边,在布线基板的芯层上产生裂纹,该芯层的裂纹到达上表面布线,产生上表面布线的断线。即,可知产生在俯视时位于削除部的(重叠、交叉)上表面布线断线的问题。关于上表面布线的断线,在俯视时,在与半导体芯片重叠的削除部中显著地产生。

发明内容

本发明的目的在于,提供防止布线基板的上表面布线的断线而可靠性高的半导体装置。

从本说明书的记载和附图可以明确本发明的上述以及其他的目的和新的特征。

如果简单说明公开于本申请的发明中的代表性的发明的概要,则如下所述。

即,作为本申请发明的一方式的半导体装置具有布线基板,该布线基板具有:多个球栅,形成在芯层的下表面;阻焊膜,覆盖芯层的下表面;过孔导体层,贯通芯层,与球栅连接;以及上表面布线,形成在芯层的上表面,在一端具有键合区,另一端与过孔导体层连接。而且,具有配置在布线基板之上的半导体芯片和与球栅连接的焊球。并且,阻焊膜具有使芯层的下表面露出的削除部,上表面布线具有细线部和粗线部,在俯视时,粗线部与削除部重叠。

如果简单说明通过公开于本申请的发明中的代表性的发明得到的效果,则如下所述。

即,根据本申请发明的一方式,能够提高半导体装置的可靠性。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于瑞萨电子株式会社,未经瑞萨电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510883645.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top