[发明专利]一种低温下设施蔬菜的育苗及生产方法

说明书

技术领域

本发明属于农业生产技术领域，具体涉及一种在低温下进行育苗并生产的技术。

背景技术

低温逆境是植物生育过程中的重要逆境之一。低温胁迫引发植物生理代谢机制变 化，主要表现为根系活力下降，植株生长受抑，植株矮小，叶片失绿或是黄化，花器、果实产 生畸形等症状。同时，植物的光合效率下降，干物质积累减少，养分的吸收和运输受阻，细胞 器结构变化，细胞功能下降，呼吸能耗增加，衰老进程加速，甚至导致植株死亡。

设施蔬菜是指在小拱棚、大拱棚、日光温室或地膜覆盖条件下种植的蔬菜。现在一 般的蔬菜都能在设施中种植，比如番茄、辣椒、甜瓜、西瓜、茄子等果菜以及菠菜、生菜、花椰 菜等一些叶菜类蔬菜。我国北方设施蔬菜生产中经常遭遇低温逆境，生产损失较大。具体危 害如下：首先，低温环境下，蔬菜植株干物质积累显著不足，生长缓慢，下胚轴细长形成高脚 苗，表现为整株生理功能下降，营养元素吸收不足，发育不良，苗龄延长，不利于壮苗培育。 其次，低温环境影响茄果类等蔬菜叶芽、花芽的正常分化，引起花芽分化和受精不良导致后 期产生畸形叶、果和落花、落果等。第三，低温逆境是北方反季节蔬菜产量和品质提升的主 要限制因子之一。在此环境下，蔬菜达不到正常生长发育所需光温条件，光合速率显著下 降，干物质积累减少，生长停滞，菜品产量和品质下降。因此，要实现设施蔬菜的高产、高效， 生产上须加强对低温逆境调控技术措施的研究和应用。

当前，关于对设施蔬菜低温逆境的技术调控途径主要包括培育和应用耐低温新品 种、蔬菜低温锻炼、采用化学和物理调控技术等。其中，物理调控技术方法较为简单易行，生 产应用较多。

设施蔬菜低温逆境调控技术包括保温和加温技术，保温技术主要有覆盖草苫、地 膜等。但在我国东北、内蒙、新疆等极寒地区冬季单纯保温措施不能满足生产需求，还需进 行加温或增温。目前生产采用的加温技术主要有烧煤火道（火炉）采暖、锅炉暖气、热风炉、 电暖风等，育苗则多采用铺设电热线方法。但以上调控技术普遍存在热效率转化率较低，加 温不均匀，不能实现地上和地下同步温度调控，成本较高，操作复杂，环境污染等问题，并且 生产应用效果不佳。也就是说，现有技术具有如下缺点：现有蔬菜低温物理调控技术多以烧 煤火道（火炉）、烧锅炉水暖为主，上述方法存在的问题是烧煤易致环境污染，热效率较低， 棚室内增温不均匀，造成蔬菜长势不均，增温效果不佳，且需专门人员管理，生产成本增加。 亦有棚室采用热风炉、电暖风等增温，易造成棚室内局部温度过高，边缘温度过低，蔬菜长 势不均，人员管理成本较高。采用布电热线增温育苗，则存在热效率较低，布线复杂，升温较 慢，不能满足生产需求等缺点。

发明内容

因此，针对上述的问题，本发明提出一种低温下设施蔬菜的育苗及生产方法，针对 我国设施蔬菜反季节生产中，尤其在蔬菜发育的关键阶段存在低温逆境导致蔬菜叶芽、花 芽分化不良、根系吸收障碍导致缺素、植株徒长、产量和品质下降等生产实际问题，通过利 用远红外电热膜增温技术进行蔬菜穴盘（营养钵）或苗床育苗，可有效克服蔬菜苗期低温逆 境，培育壮苗，缩短苗龄，降低生产成本，解决现有技术之不足。

为了解决上述技术问题，本发明所采用的技术方案是，一种低温下设施蔬菜的育 苗方法，包括如下步骤：

步骤1：根据种植蔬菜来选择穴盘或者营养钵或者苗床进行育苗；

采用穴盘，进行如下操作：在穴盘下铺设单面发热的远红外电热膜，远红外电热膜的散 热面朝上，其散热面用过筛细土覆盖，过筛细土的厚度约为2cm，然后将穴盘置于过筛细土 之上；远红外电热膜与温控仪电性连接，温控仪用于控制远红外电热膜的温度；远红外电热 膜的宽度等于或者略大于穴盘的宽度，长度根据需加温的穴盘数确定，一般每块电热膜上 可同时摆放10-20块穴盘。穴盘可由聚苯泡沫、聚苯乙烯、聚氯乙烯和聚丙烯等材料通过吹 塑或者注塑而制成；

采用营养钵，进行如下操作：在营养钵下铺设单面发热的远红外电热膜，远红外电热膜 的散热面朝上，其散热面用过筛细土覆盖，过筛细土的厚度约为2cm，然后将营养钵置于过 筛细土之上；远红外电热膜与温控仪电性连接，温控仪用于控制远红外电热膜的温度；远红 外电热膜的宽度等于或者略大于横向摆放的营养钵的直径之和，长度为纵向摆放的营养钵 直径之和；