[发明专利]一种1D位场异常曲线构建2D位场异常剖面的方法

说明书

技术领域

本发明属于位场数据处理技术领域，特别涉及一种1D位场异常曲线构建2D位场异常剖面的方法。

背景技术

位场包括重力场、磁场和电场，位场的异常是来自不同深度、不同尺度场源体综合响应及共同叠加的结果。受位场勘探方法理论自身的限制，野外位场数据采集难以获得深度(维)信息，致使位场异常的地质解释不够直观，从而增大了位场资料地质解释工作的难度，并降低了地质解释的准确性。

发明内容

为了克服上述现有技术的不足，本发明的目的在于提出了一种1D位场异常曲线构建2D位场异常剖面的方法，该方法具有异常信息展示直观，易于地质解释的优点。

为了实现上述目的，本发明采用的技术方案是：一种1D位场异常曲线构建2D位场异常剖面的方法，包括如下步骤：

第一步，将含有m个采样点，点距为Δx的一维位场异常数据读取到一维数组f中；

第二步，对一维数组f进行一维离散小波多尺度分解，一维离散小波多尺度分解正变换为：

W(a,b)=1|a|Σi=0m-1ψ*(i·Δx-ba)f(i·Δx),a≠0]]>

式中，ψ称为基本小波(也称为母小波)；ψ^*为ψ的共轭函数；a表示伸缩系数，反映特定基函数的宽度(也叫做尺度)；b表示平移系数，指定沿x轴平移的位置，且并令a₀＝2，b₀＝1，j∈Z，k∈Z；Δx为点距；i＝0，2，…，m-1，为采样序号；

第三步，分别提取每一尺度小波细节的高频分量，并进行一维离散小波反变换，一维离散小波多尺度分解反变换为：

f(x)=Σj=-∞+∞Σk=-∞+∞W(j,k)ψ(2-jx-k)]]>