[发明专利]一种超临界水氧化工艺控制方法和控制系统在审
| 申请号: | 201510808162.2 | 申请日: | 2015-11-19 |
| 公开(公告)号: | CN105344292A | 公开(公告)日: | 2016-02-24 |
| 发明(设计)人: | 朱邦阳;程乐明;宋成才;高志远;王青;杜娟;史金涛 | 申请(专利权)人: | 新奥科技发展有限公司 |
| 主分类号: | B01J4/02 | 分类号: | B01J4/02;B01J19/00 |
| 代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
| 地址: | 065001 河北省廊坊市经济*** | 国省代码: | 河北;13 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 临界 氧化 工艺 控制 方法 控制系统 | ||
1.一种超临界水氧化工艺控制方法,其特征在于,包括:
步骤一、监测超临界水氧化产物的参数,所述参数包括超临界水氧化产物中各气体组分的含量和液体的化学需氧量;
步骤二、将所述参数与其标准参数范围进行对比;
步骤三、根据对比结果调节工艺系统条件;
重复以上步骤对所述工艺系统条件进行调整,直至所有所述参数均在其标准参数范围内,工艺系统稳定。
2.根据权利要求1所述的超临界水氧化工艺控制方法,其特征在于,根据对比结果调节工艺系统条件包括:
调节一个工艺系统条件;
同时监测其他工艺系统条件;
将其他工艺系统条件分别与其标准参数范围进行对比;
根据对比结果调节其他工艺系统条件。
3.根据权利要求2所述的超临界水氧化工艺控制方法,其特征在于,对比结果为:超临界水氧化产物中氧气的含量高于其标准参数范围,其它气体组分的含量均在其标准参数范围内,液体的化学需氧量高于其标准参数范围时,调节一个工艺系统条件具体为:提高反应器内的温度。
4.根据权利要求2所述的超临界水氧化工艺控制方法,其特征在于,对比结果为:超临界水氧化产物中氧气的含量低于其标准参数范围,一氧化碳和氢气的含量均高于其标准参数范围,其他气体的含量均在其标准参数范围内,且液体的化学需氧量高于其标准参数范围时,调节一个工艺系统条件具体为:提高反应器内的氧气的量。
5.根据权利要求2所述的超临界水氧化工艺控制方法,其特征在于,对比结果为:超临界水氧化产物中氧气的含量高于其标准参数范围,一氧化碳的含量高于其标准参数范围,其他气体的含量均在其标准参数范围内,且液体的化学需氧量高于其标准参数范围时,调节一个工艺系统条件具体为:提高反应器内的温度。
6.根据权利要求4所述的超临界水氧化工艺控制方法,其特征在于,提高反应器内的氧气的量包括:调高氧气流量调节阀开度,和/或,提高液氧泵频率。
7.根据权利要求3或5所述的超临界水氧化工艺控制方法,其特征在于,提高反应器内的温度包括:增加辅助燃料流量。
8.根据权利要求2所述的超临界水氧化工艺控制方法,其特征在于,当调节其它工艺系统条件为降低反应器出口温度时,降低反应器出口温度包括:提高反应器内的液位,和/或,提高冷却水泵频率。
9.根据权利要求2所述的超临界水氧化工艺控制方法,其特征在于,当调节其它工艺系统条件为降低反应器内的压力时,降低反应器内的压力包括:开启降压系统,降低封压泵频率,和/或,调高压力调节阀开度。
10.根据权利要求2所述的超临界水氧化工艺控制方法,其特征在于,对比结果为:超临界水氧化产物中氧气的含量高于其标准参数范围,其他气体的含量均在其标准参数范围内,且液体的化学需氧量均在其标准参数范围内时,调节一个工艺系统条件具体为:降低反应器内的氧气的量。
11.根据权利要求10所述的超临界水氧化工艺控制方法,其特征在于,降低反应器内的氧气的量包括:调低氧气流量调节阀开度,和/或,降低液氧泵频率。
12.根据权利要求1所述的超临界水氧化工艺控制方法,其特征在于,每隔至多30秒监测超临界水氧化产物中各气体组分的含量一次,每隔至多30分钟监测超临界水氧化产物中液体的化学需氧量一次。
13.一种超临界水氧化工艺控制系统,所述超临界水氧化工艺控制系统应用于如权利要求1~12任一项所述的超临界水氧化工艺控制方法中,其特征在于,所述超临界水氧化工艺控制系统包括:
参数监测单元,所述参数监测单元用于监测超临界水氧化产物的参数及其他工艺参数,所述超临界水氧化产物参数包括超临界水氧化产物中各气体组分的含量和液体的化学需氧量;
对比单元,所述对比单元与所述参数监测单元连接,用于将所述参数与标准参数范围进行对比;
工艺系统条件调节单元,所述工艺系统条件调节单元与所述对比单元连接,用于根据对比结果调节工艺系统条件。
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