[发明专利]磁控直流溅射系统内的冷却装置在审
| 申请号: | 201510806340.8 | 申请日: | 2015-11-20 |
| 公开(公告)号: | CN105316638A | 公开(公告)日: | 2016-02-10 |
| 发明(设计)人: | 史进;伍志军 | 申请(专利权)人: | 苏州赛森电子科技有限公司 |
| 主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35 |
| 代理公司: | 南京众联专利代理有限公司 32206 | 代理人: | 顾进 |
| 地址: | 215699 江苏省苏州市张*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 直流 溅射 系统 冷却 装置 | ||
1.一种磁控直流溅射系统内的冷却装置,其包括有冷却腔室,以及延伸至冷却腔室内的传输轨道;所述冷却腔室内部设置有多个喷气管道,其连通至设置在冷却腔室外部的氮气容器内;其特征在于,所述冷却腔室包括有进料口与出料口,冷却腔室之中,进料口的对应位置设置有辅助冷却室,辅助冷却室内部设置有夹层,夹层内部设置有冷却管道,冷却管道连通至设置在冷却腔体外部的冷却水槽。
2.按照权利要求1所述的磁控直流溅射系统内的冷却装置,其特征在于,所述辅助冷却室采用环形结构,其环绕传输轨道进行分布,辅助冷却室与传输轨道上端面之间的距离至多为10厘米。
3.按照权利要求2所述的磁控直流溅射系统内的冷却装置,其特征在于,所述辅助冷却室内部设置有多个辅助喷气管道,其连通至设置在冷却腔体外部的空气压缩机。
4.按照权利要求3所述的磁控直流溅射系统内的冷却装置,其特征在于,所述辅助冷却室内设置有至少4个辅助喷气管道,其对称分布于传输轨道的两侧,每一个辅助喷气管道均朝向传输轨道的上端面进行延伸。
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