[发明专利]双向进出交替镀膜装置及方法

说明书

本发明公开一种双向进出交替镀膜装置及方法，其装置是在镀膜室两端对称设置依次连接的缓冲室、进出料室和进出料架，位于镀膜室同一端的进出料架、进出料室和缓冲室独立完成同一个工件或同一组工件的进料和出料；镀膜室内设有双向传动的传动辊组，带动同一个工件或同一组工件在镀膜室内来回运动，进行多层镀膜。其方法是在镀膜室一端，工件依次进入进出料架、进出料室、缓冲室和镀膜室，在镀膜室内通过传动辊组带动工件来回运动进行多层镀膜；完成镀膜后，工件反向运动送出；同时，位于镀膜室另一端的工件由相应的进出料架开始进行输送；镀膜室两端的工件交替进入镀膜室，进行镀膜处理。本发明可满足磁性材料的厚膜要求，并可有效提高加工效率。

技术领域

本发明涉及大批量或大面积厚膜的镀膜技术领域，特别涉及一种双向进出交替镀膜装置及方法。

背景技术

虽然近年来真空镀膜技术得到了越来越多的应用，但是由于真空镀膜的沉积速率较低，设备投入成本高等原因，在某些表面处理领域仍未能普及使用。比如：针对大批量或大面积厚膜(膜层厚度在1μm以上)镀膜的领域。具体如：磁性材料的表面防腐处理，目前还是采用水电镀、电泳等传统表面处理工为主艺，但是这些传统的表面处理工艺制程不环保，不符合社会发展的需要。

另外针对一些三维立体形状的工件的真空镀膜处理，由于要考虑到膜层的均匀性，一直以来是采用带公自转旋转机构的箱式真空镀膜设备来进行表面处理。但是难免因为要进行装夹固定而造成工件表面局部膜层厚度不足等缺陷，而影响到最终产品的表面处理质量。另外工件装夹的过程工作量大，耗时长，导致工作效率低，而且可能因为旋转过程工件的掉落导致废品率增加等问题。因此设计出无夹痕、大批量高效率生产、低运行成本的自动化真空镀膜设备有着极大的意义。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术的不足，提供一种生产效率较高、可实现磁性材料大批量或大面积厚膜生产的双向进出交替镀膜装置。

本发明的另一目的在于提供一种通过上述装置实现的双向进出交替镀膜方法。

本发明的技术方案为：一种双向进出交替镀膜装置，包括进出料架、进出料室、缓冲室和镀膜室，镀膜室两端对称设置依次连接的缓冲室、进出料室和进出料架，位于镀膜室同一端的进出料架、进出料室和缓冲室形成一个独立的工件输送系统，独立完成同一个工件或同一组工件的进料和出料；镀膜室内的下部设有双向传动的传动辊组，通过传动辊组带动同一个工件或同一组工件在镀膜室内来回运动，进行多层镀膜。通过在镀膜室内设置双向传动的传动辊组，使工件来回运动进行镀膜，可使工件表面镀膜层的厚度在一次加工中就达到要求，不仅生产效率得到提高，产品质量也得到提高；同时，在镀膜室两端分别设置两套独立的工件输送系统，且两套工件输送系统交替运行，可有效提高生产效率，大幅度提高产能。

所述镀膜室内的上部设有多套磁控溅射靶，磁控溅射靶的靶材为单块状的靶材或多块拼接状的双跑道式大口径旋转圆柱靶，可大幅度降低稀有金属的加工难度，提高稀有金属利用率。

所述传动辊组包括多个并排设置的传动辊，各传动辊分别包括传动辊套和传动辊轴，传动辊套设于传动辊轴外周，传动辊轴两端分别设置支撑座，传动辊轴一端通过传动轮外接驱动机构，驱动机构可采用与现有设备相同的驱动机构。

所述传动辊轴两端还分别设有绝缘座，绝缘座位于支撑座与传动辊套的端面之间。

所述传动辊的两端还分别设有屏蔽板，各屏蔽板分别设于支撑座上方。

所述进出料架与进出料室之间设有真空锁，进出料室与缓冲室之间也设有真空锁，镀膜室与其两端的缓冲室连通形成相连的真空室。真空锁可采用目前市面通用的真空锁。

所述进出料室一侧设有抽真空机组，缓冲室或镀膜室一侧也设有抽真空机组，进出料室内设有离子处理组件。抽真空机组和离子处理组件均采用与现有镀膜装置所采用的抽真空机组和离子处理组件即可。