[发明专利]一种高透光的可钢化低辐射镀膜玻璃及其制备方法

说明书

技术领域

本申请涉及低辐射镀膜玻璃领域，特别是涉及一种可钢化低辐射镀膜玻璃及其制备方法。

背景技术

根据国家标准GB/18915.2-2002定义，低辐射镀膜玻璃又称低辐射玻璃，“Low-E”玻璃，是一种对波长范围4.5um-25um的远红外线具有较高反射比的镀膜玻璃。可钢化低辐射镀膜玻璃，是指在线镀膜玻璃，可以深加工，没有钢化，也就是说镀好膜后再进行后续加工或钢化处理；这是与钢化镀膜玻璃相对的，钢化镀膜玻璃是指钢化后再镀膜，钢化镀膜玻璃加工性能较差，镀膜颜色也相对单一。

现有的低辐射镀膜玻璃，虽然能够有效的实现低辐射效果，但是由于镀膜的引入和设计不尽合理，使得低辐射镀膜玻璃对可见光有很大影响，可见光透过率明显降低，从而影响了采光效果。

发明内容

本申请的目的是提供一种结构改进的可钢化的低辐射镀膜玻璃及其制备方法。

本申请采用了以下技术方案：

本申请的一方面公开了一种可钢化低辐射镀膜玻璃，由玻璃基板和依序层叠于玻璃基板的至少一个表面的第一介质层、第二介质层、功能层、保护层、第三介质层、第四介质层组成；第一介质层为氮化硅或氮氧化硅膜层，第二介质层为铝掺杂氧化锌膜层，功能层为银膜层，保护层为氮化铬或氮氧化铬膜层，第三介质层为铝掺杂氧化锌膜层，第四介质层为陶瓷钛膜层。

需要说明的是，本申请的关键在于按照设定的顺序，合理配置各层，使得各层既能够紧密吸附，又能充分发挥各自的性能，并且，通过合理控制各层，使得可钢化低辐射镀膜玻璃在保障低辐射性能的同时，具备更好的透光率。本申请中可见光的透过率，又称为透光率。

优选的，第一介质层的厚度为20.7～34.4nm，第二介质层的厚度为3.6～13.8nm，功能层的厚度为6.7～9.7nm，保护层的厚度为0.6～1.1nm，第三介质层的厚度为3.0～12.8nm，第四介质层的厚度为19.1～36.8nm。

优选的，玻璃基板为浮法玻璃基板。

优选的，可钢化低辐射镀膜玻璃在加热处理后的透光率大于85％。

需要说明的是，其中加热处理既钢化处理，通常来说，可钢化低辐射镀膜玻璃在钢化后各方面性能都有所提高，而对于低辐射镀膜玻璃而言，能否进行钢化处理，很大程度上取决于镀膜的性能；本申请对各层镀膜进行合理配置，使得低辐射镀膜玻璃在镀膜后能够进行加热处理，提高了生产效率，达到生产优化。

本申请的另一面公开了本申请的可钢化低辐射镀膜玻璃的制备方法，包括如下步骤，

步骤S01：对玻璃基板进行表面处理；

步骤S02：在经过表面处理的玻璃基板表面依次沉积第一介质层、第二介质层、功能层、保护层、第三介质层、第四介质层，形成可钢化低辐射镀膜玻璃。

优选的，沉积为磁控溅射沉积。

优选的，磁控溅射沉积的溅射真空度为2×10^-3mbar～5×10^-3mbar

本申请的有益效果在于：

本申请的可钢化低辐射镀膜玻璃，通过对多层镀膜的各层进行优化，使得制备的可钢化低辐射镀膜玻璃在保持良好的低辐射性能的同时，具有透过率高，镀膜层与玻璃基板结合力强，镀膜层致密、均匀，膜层抗氧化抗划伤能力强，可钢化等优点。

附图说明

图1是本申请实施例中可钢化低辐射镀膜玻璃的结构示意图；

图2-4是本申请实施例一的可钢化低辐射镀膜玻璃的光谱曲线示意图，其中，图2为玻璃面反射率的光谱曲线，图3为镀膜面反射率的光谱曲线，图4为可见光透过率；

图5-7是本申请实施例二的可钢化低辐射镀膜玻璃的光谱曲线示意图，其中，图5为玻璃面反射率的光谱曲线，图6为镀膜面反射率的光谱曲线，图7为可见光透过率；

图8-10是本申请实施例三的可钢化低辐射镀膜玻璃的光谱曲线示意图，其中，图8为玻璃面反射率的光谱曲线，图9为镀膜面反射率的光谱曲线，图10为可见光透过率；

图11-13是本申请实施例四的可钢化低辐射镀膜玻璃的光谱曲线示意图，其中，图11为玻璃面反射率的光谱曲线，图12为镀膜面反射率的光谱曲线，图13为可见光透过率；

图14是本申请实施例中可钢化低辐射镀膜玻璃的制备方法的流程框图。

具体实施方式