[发明专利]一种高透光的可钢化低辐射镀膜玻璃及其制备方法

权利要求书

1.一种可钢化低辐射镀膜玻璃，其特征在于：由玻璃基板和依序层叠于玻璃基板的至少一个表面的第一介质层、第二介质层、功能层、保护层、第三介质层、第四介质层组成；

所述第一介质层为氮化硅或氮氧化硅膜层，所述第二介质层为铝掺杂氧化锌膜层，所述功能层为银膜层，所述保护层为氮化铬或氮氧化铬膜层，所述第三介质层为铝掺杂氧化锌膜层，所述第四介质层为陶瓷钛膜层。

2.根据权利要求1所述的可钢化低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一介质层的厚度为20.7～34.4nm，所述第二介质层的厚度为3.6～13.8nm，所述功能层的厚度为6.7～9.7nm，所述保护层的厚度为0.6～1.1nm，所述第三介质层的厚度为3.0～12.8nm，所述第四介质层的厚度为19.1～36.8nm。

3.根据权利要求1所述的可钢化低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述玻璃基板为浮法玻璃基板。

4.根据权利要求1-3任一项所述的可钢化低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述可钢化低辐射镀膜玻璃在加热处理后的透光率大于85％。

5.根据权利要求1-4任一项所述的可钢化低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于：包括如下步骤，

步骤S01：对所述玻璃基板进行表面处理；

步骤S02：在经过表面处理的玻璃基板表面依次沉积所述第一介质层、第二介质层、功能层、保护层、第三介质层、第四介质层，形成所述可钢化低辐射镀膜玻璃。

6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于：所述沉积为磁控溅射沉积。

7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于：所述磁控溅射沉积的溅射真空度为2×10-3mbar～5×10-3mbar。