[发明专利]泡生法晶体生长单晶炉脱锅方法、温控方法和控制方法有效
申请号: | 201510749833.2 | 申请日: | 2015-11-06 |
公开(公告)号: | CN105350072A | 公开(公告)日: | 2016-02-24 |
发明(设计)人: | 王辉辉;穆童;陈亮 | 申请(专利权)人: | 南京晶升能源设备有限公司 |
主分类号: | C30B17/00 | 分类号: | C30B17/00;C30B29/20 |
代理公司: | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 李昊 |
地址: | 210000 江苏省南京*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 泡生法 晶体生长 单晶炉脱锅 方法 温控 控制 | ||
技术领域
本发明涉及一种泡生法晶体生长单晶炉脱锅方法、温控方法和控制方法属于大公斤(85kg-200kg)级别的蓝宝石晶体生长自动脱锅技术,具体涉及一种工业化大批量生产的人工晶体,采用泡生法生产85Kg-200Kg蓝宝石晶体的自动脱锅程序,以大幅提高晶体品质,降低不良率,促进行业的大规划工业化生产。
背景技术
蓝宝石由于具有具有高声速、耐高温、抗腐蚀、高硬度、高透光性、熔点高(2045℃)等特点,因而被大量用在光学元件、红外装置、高强度镭射镜片材料及光罩材料上。目前超高亮度白/蓝光LED的品质取决于氮化镓磊晶(GaN)的材料品质,而氮化镓磊晶品质则与所使用的蓝宝石基板品质息息相关。尽管目前蓝宝石生长方法各种各样,但目前泡生法(Ky法)是缺陷最小,尺寸最易大化的工艺方法。
泡生法蓝宝石单晶生长炉,是在高真空炉中,利用无缺陷的籽晶,采用旋转微提拉提拉运动,从熔体中缓慢结出结构完整的蓝宝石单晶体。由于此种生长方式具有较小的温度梯度,而且不与坩埚壁接触,相对而言,长出的晶体缺陷较少,截至目前,泡生法长出的蓝宝石晶体是最适合的衬底及光学玻璃材料。
但实际大规模生产过程中,即使长出的晶体单晶性良好,缺陷少,但由于晶体在冷却过程中与坩埚未脱离,导致晶体开裂,造成晶体报废。而且随着晶体的增大,晶体开裂的概率变的更大。目前晶体与坩埚脱离,即使经验丰富的工艺人员,不能保证晶体与坩埚在进入低温前脱离成功,这极大的限制了蓝宝石产业的工业化发展。
随着自动化控制技术的成熟以及长晶工艺数据的大量积累,泡生法生产的自动脱锅工艺变成可能可能。采用本发明85Kg-200Kg蓝宝石晶体自动脱锅控制技术,提高了晶体品质一致性,大大降低对人的要求,节省大量的人力物力,缩减生产成本,为蓝宝石晶体行业的大规模工业化生产提供了可能性。
本发明最大的特点是:根据蓝宝石特殊的物理化学性质,使其在最短的时间内降到常温,同时保证晶体不出现开裂缺陷。
发明内容
发明目的:本发明的目的在于使长完的高温晶体,迅速脱离坩埚,并在最短的时间内降到50-80℃以内,从而避免晶体开裂。
技术方案:本发明的技术方案如下:
本发明的泡生法晶体生长单晶炉脱锅方法,包括以下步骤:
1)若测得的晶体重量大于设定重量上限值a,将晶体以0.1-5mm/h的速度向下运动,直至测得的晶体重量小于设定重量下限值b后,将晶体以0.1-5mm/h的速度持续向上运动;
2)上述运动一直进行,直到冷却程序运行结束。
进一步地,所述重量上限a值为晶体重量加上5-10kg后的数值,重量下限b为晶体重量加上0-5kg后的数值。
本发明还包括一种泡生法晶体生长单晶炉脱锅温控方法,包括以下步骤:
1)若单晶炉功率为初始功率的30%以下或测得炉内温度范围为350℃以下时,则将下法兰冷却水流量调整为初始值的20~30%,并返回步骤1);
2)若单晶炉功率为功初始率的30~60%或测得炉内温度范围为350~850℃时时,则将下法兰冷却水流量调整为初始值的50%~60%,并返回步骤1);
3)若单晶炉功率为初始功率的60%-80%之间或测得炉内温度范围为850~1900℃时,则将下法兰冷却水流量调整为初始值的70~80%,并返回步骤1)。
4)若进入冷却后,当前功率值在80%以上时,下法兰盘水流量不变化,并返回步骤1)。
本发明还包括一种泡生法晶体生长单晶炉脱锅控制方法,包括以下步骤:
1)当晶体生长完成后,控制器启动电机控制和下法兰冷却水流控制算法;
2)当电机控制算法终止后,确认炉内充气完毕,程序终止。
进一步地,所述的电机控制算法包括以下步骤:
1.1.1)若测得的晶体重量大于设定重量上限值a,将晶体以0.1-5mm/h的速度向下运动,直至测得的晶体重量小于设定重量下限值b后,将晶体以0.1-5mm/h的速度持续向上运动;
1.1.2)若测得的晶体重量仍大于设定重量上限值a,则返回步骤1),反之,程序终止。
进一步地,所述重量上限a值为晶体实际投料重量加上5-10kg后的数值,重量下限b为晶体实际投料重量加上0-5kg后的数值。
进一步地,所述的下法兰冷却水流控制算法包括以下步骤:
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