[发明专利]一种芍药利用自然低温促成栽培方法有效

专利信息
申请号: 201510744801.3 申请日: 2015-10-31
公开(公告)号: CN105325153B 公开(公告)日: 2018-10-30
发明(设计)人: 赵雪梅;梁晨霞;于晓玉 申请(专利权)人: 赤峰学院
主分类号: A01G22/60 分类号: A01G22/60;A01G7/06
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 024000 内蒙*** 国省代码: 内蒙古;15
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摘要:
搜索关键词: 一种 芍药 利用 自然 低温 促成 栽培 方法
【说明书】:

发明涉及一种芍药利用自然低温促成栽培方法,包括以下步骤:将芍药苗9月到10月种植于地形平坦,排水良好的露地中,期间平均温度为20‑8℃;11月中旬到12月中旬,平均温度‑15℃到‑25℃,冻土层厚度为5‑15cm时,将芍药苗于露地起苗,晾置5‑7d;使用生根粉和赤霉素处理组合溶液处理芍药根部,其中所选用生根粉浓度为0‑150mg/L,赤霉素浓度为0‑300mg/L;将激素处理后的芍药苗植入花盆中,将盆栽移入温室;将植入花盆的芍药苗在温室中培养,辅以补光、温湿度调节措施。本发明使用激素处理结合自然低温打破芍药休眠状态,能够促进芍药提前开花,为芍药盆花促成栽培提供了新途径,且该方法对场地没有限制,避免租用冷库,降低了成本,节能环保。

技术领域

本发明涉及花卉花期调控技术领域,尤其是涉及一种芍药利用自然低温促成栽培方法。

背景技术

芍药是我国传统名花之一,历来被誉为“花相”,主要花期为4-6月,深受人们喜爱。随着人们生活水平的提高和栽培技术的发展,“不时之花”-盆花芍药和切花芍药逐渐上市,极大的丰富和满足了人们的需求。围绕日渐繁荣的芍药供求市场,国内外关于芍药的促成栽培研究亦逐年递增,芍药需经春化作用才能开花,因此在芍药促成栽培研究中,通常的做法是使用冷库冷藏来打破休眠促进萌发并提高成花率。然而使用冷藏手段使得芍药培育过程中生产成本增加,劳动量加大等,导致花卉商品价格升高,不利于商品推广。

我国赤峰市地处内蒙古中纬度地区,属中温带、半干旱、大陆性季风气候区。冬季漫长而寒冷,春季干旱多大风,夏季短促炎热、雨水集中,秋季短促、气温下降快、霜冻降临早。赤峰市年平均气温为0-7℃。极端最低气温达-45.5℃,极端最高气温37.7℃。大部地区年日照时数为2700-3100h。

本发明针对赤峰地区寒冷的气候特点,突破传统的栽培技术,即冬季露地起苗激素处理上盆之后直接移入温室管理,省去了冷藏的步骤,达到芍药促成栽培的目的,使得生产成本和劳动量降低,推动芍药市场推广。

发明内容

为了解决现有技术存在的问题,本发明的目的在于利用寒冷的气候特点,突破传统的栽培技术,在冬季露地起苗激素处理上盆之后直接移入温室管理,省去了冷藏的步骤,达到芍药促成栽培,使得生产成本和劳动量降低,推动芍药市场推广。

本发明是通过下述技术方案来实现的:一种芍药利用自然低温促成栽培方法,包括以下步骤:

(1)苗木准备:将4-5年生芍药苗9月到10月种植于地形平坦,排水良好的露地中,期间平均温度为20-8℃;

(2)起苗:11月中旬到12月中旬,平均温度-15℃到-25℃,冻土层厚度为5-15cm,将芍药苗于露地起苗,晾置5-7d;

(3)激素处理:使用生根粉和赤霉素处理组合溶液处理芍药根部,先使用生根粉溶液喷撒芍药根部至淋漓,待淋漓的根部稍干后往根部再喷撒赤霉素溶液亦至淋漓,其中所选用的生根粉浓度为0-150mg/L,赤霉素浓度为0-300mg/L;

(4)上盆:将激素处理后的芍药苗植入花盆中,将盆栽移入温室中置于温室庇荫处养护,两天后浇透水,待1-2周盆栽芍药缓苗后将盆栽芍药置于温室正常光照处管理;

(5)温室培养:将盆栽芍药苗在温室中培养,芍药萌发后辅以补光、温湿度调节措施。

优选的,芍药栽培地区为赤峰地区。

优选的,花盆底部放置粗粒基质和100g/盆的复合肥,花盆中栽培基质采用有机质∶园土∶沙土=1∶3∶2的比例配制,栽培基质放置于粗粒基质和复合肥之上。

优选的,温室内补光时的光照强度为100W白炽灯照射,当芍药苗萌发后每天补光至晚7点,每天光照不少于12h。

优选的,温室内温度控制在15-25℃,通过加温、通风透光控制温度。

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