[发明专利]大豆抗疫病基因RpsQ的分子标记Insert144及其应用有效

专利信息
申请号: 201510737729.1 申请日: 2015-11-03
公开(公告)号: CN105349550B 公开(公告)日: 2018-11-20
发明(设计)人: 朱振东;李银萍;孙素丽;钟超;王晓鸣 申请(专利权)人: 中国农业科学院作物科学研究所
主分类号: C12N15/29 分类号: C12N15/29;C12N15/11;C12Q1/6895;A01H5/00
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 王文君
地址: 100081 北*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 大豆 疫病 基因 rpsq 分子 标记 insert144 及其 应用
【说明书】:

发明公开了与大豆抗疫病基因RpsQ紧密连锁的分子标记Insert144,其核苷酸序列如SEQ ID No.1所示,该分子标记与大豆抗疫病基因RpsQ的遗传距离为0cM。检测分析表明该分子标记能准确跟踪所述大豆抗疫病基因RpsQ,预测大豆的抗疫病特性,进而方便进行分子设计育种。本发明还公开了一种鉴定大豆抗疫病基因RpsQ的方法,利用本发明所提供的方法可以实现对大豆抗疫病植株的快速鉴定检测。

技术领域

本发明属于农业生物技术工程和农作物抗病遗传育种领域,具体涉及一种大豆抗疫病基因RpsQ的分子标记Insert144及其应用。

背景技术

由大豆疫霉(Phytophthora sojae Kaufmann&Gerdemann)引起的大豆疫病是大豆生产中的一种毁灭性病害。目前全世界每年因大豆疫病造成的经济损失大约为10亿美元(Tyler,2007)。

防治大豆疫病最为经济、有效且环境安全的方法是种植抗病品种。大豆对疫病的抗性表现为质量性状抗性和数量性状抗性。质量性状抗性由单基因控制。目前已经有25个抗性基因被定位到不同的染色体上。

大豆疫霉群体结构复杂,容易产生新的毒力型。大豆疫霉新毒力型的出现,导致单基因抗性品种的抗性丧失。大量研究表明,大豆抗疫病被克服的速度正在加快。通常单基因抗性品种的使用年限为8-15年,为了延长抗病品种的使用年限,育种策略是将不同的抗性基因叠加,因此大力挖掘和鉴定新的抗性基因显得尤为必要。

大豆品种齐茶豆1号是山东省农业科学院作物研究所1995年审定通过的品种,原代号济3045。该品种通过以鲁豆4号为母本,北京小黑豆为父本杂交选育而成,高抗大豆孢囊线虫1、3号小种,抗病毒病,抗倒伏。前期研究结果表明,齐茶豆1号对大豆疫霉有广谱的抗性。因此,为能够进一步验证和利用大豆品种齐茶豆1号的抗疫病特性,定位抗疫病基因对提高育种效率和推进大豆抗疫病工作具有重要意义。

分子标记辅助检测,不依赖于表现型选择,即不受环境条件、基因间互作、基因型与环境互作等多种因素的影响,而是直接对基因型进行选择,因而能大大提高大豆抗疫病基因的检测效率,可见开发与齐茶豆1号抗疫病基因共分离的分子标记对提高育种效率,加速抗疫病育种工作进程具有重要意义。

发明内容

本发明的目的在于提供一种与大豆抗疫病基因RpsQ共分离的分子标记及其应用。

为达到以上目的,本发明提供了一种大豆抗疫病基因RpsQ的分子标记Insert144,其核苷酸序列如SEQ ID No.1所示。

所述分子标记位于大豆3号染色体的SSR标记BARCSOYSSR_03_0165(0.6cM)和BARCSOYSSR_03_0176(0.9cM)之间。所述分子标记与大豆抗疫病基因RpsQ的遗传距离为0cM。

具体地,本发明中与大豆抗疫病基因RpsQ共分离的分子标记Insert144通过如下方法获得:

利用吉科豆2号×齐茶豆1号杂交组合衍生的F2:3为作图群体,研究齐茶豆1号对大豆疫病抗性的遗传基础;利用已公布的大豆SSR标记,筛选在亲本和抗、感池上都具有多态性的分子标记,将具有多态性的SSR标记进行群体验证并构建连锁图谱;利用定位区间预测的候选基因序列,设计特异引物在吉科豆2号和齐茶豆1号上扩增测序,开发InDel标记,并进行群体验证,获得与抗疫病基因RpsQ共分离的标记。从而为大豆抗疫病育种提供辅助选择分子标记,提高育种效率,加速抗疫病育种工作进程。

本发明还提供了分子标记Insert144的PCR引物,其中,上游引物序列如SEQ IDNo.2所示,下游引物序列如SEQ ID No.3所示。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国农业科学院作物科学研究所,未经中国农业科学院作物科学研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510737729.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top