[发明专利]对位标记搜寻方法、显示基板和显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种对位标记搜寻方法、显示基板和显示装置。

背景技术

在进行构图工艺时，通常需要使用曝光机对光刻胶进行曝光，而进行曝光时，需要通过位于衬底基板上虚拟(dummy)区的对位标记(GlassMark)将掩膜版与衬底基板进行对位，以确保曝光时的精确度，其中对位标记可以为矩形或者圆形。

相关技术中有一种对位标记搜寻方法，在该方法中，首先获取对位标记的理论坐标，之后根据理论坐标移动检出系视野(曝光机搜寻对位标记的视窗，该视窗能够观测到整个对位标记，对位标记出现在该视窗中时说明曝光机找到对位标记)，由于曝光机的机械误差，检出系视野移动后在基板上的实际坐标与理论坐标存在误差，因而需要向检出系视野的实际坐标周围各个方向移动检出系视野以搜寻对位标记。

发明人在实现本发明的过程中，发现上述方式至少存在如下缺陷：上述方式需要向实际坐标的各个方向移动检出系视野才能找到对位标记，查找过程较为复杂，查找时间较长。

发明内容

为了解决相关技术中需要向实际坐标的各个方向移动检出系视野才能找到对位标记，查找过程较为复杂，查找时间较长的问题，本发明实施例提供了一种对位标记搜寻方法、显示基板和显示装置。所述技术方案如下：

根据本发明实施例的第一方面，提供一种对位标记搜寻方法，用于搜寻衬底基板上的对位标记，所述衬底基板的虚拟区上形成有定位线段，所述定位线段所在直线贯穿所述对位标记，所述方法包括：

获取理论坐标；

以所述理论坐标为目标移动检出系视野至目标位置；

以垂直于所述定位线段的方向从所述目标位置移动所述检出系视野至所述定位线段出现在所述检出系视野中；

以所述定位线段的长度方向从所述定位线段处移动所述检出系视野至所述对位标记出现在所述检出系视野中。

可选的，所述定位线段所在直线贯穿所述对位标记的中心，所述以垂直于所述定位线段的方向从所述目标位置移动所述检出系视野至所述定位线段出现在所述检出系视野中之后，所述方法还包括：

移动所述检出系视野，使所述检出系视野的中心位于所述定位线段上。

可选的，所述定位线段与所述对位标记在所述定位线段的长度方向上的距离小于所述检出系视野在所述定位线段的长度方向上的宽度。

可选的，所述定位线段有两条，两条所述定位线段所在的直线重合且两条所述定位线段位于所述对位标记的两侧。

可选的，所述检出系视野为矩形，

两条所述定位线段之间的距离大于或等于所述检出系视野在任一所述定位线段的长度方向上的长度。

可选的，所述定位线段与所述对位标记是在一次构图工艺中形成的。

可选的，所述衬底基板包括：阵列基板中的衬底基板或彩膜基板中的衬底基板。

可选的，所述方法用于构图工艺中。

根据本发明的第二方面，提供一种显示基板，所述显示基板包括衬底基板，所述衬底基板的虚拟区上形成有定位线段，所述定位线段所在直线贯穿对位标记。

可选的，所述定位线段所在直线贯穿所述对位标记的中心。

可选的，所述定位线段与所述对位标记在所述定位线段的长度方向上的距离小于所述检出系视野在所述定位线段的长度方向上的宽度。

可选的，所述对位标记的定位线段有两条，两条所述定位线段所在的直线重合且两条所述定位线段位于所述对位标记的两侧。

可选的，两条所述定位线段之间的距离大于或等于所述检出系视野在任一所述定位线段的长度方向上的长度。

可选的，所述定位线段与所述对位标记是在一次构图工艺中形成的。

可选的，所述显示基板包括：

阵列基板或彩膜基板。

根据本发明的第三方面，提供一种显示装置，所述显示装置包括第三方面所述的显示基板。

本发明实施例提供的技术方案可以包括以下有益效果：

通过在衬底基板的虚拟区寻找定位线段，并沿定位线段的长度方向来寻找对位标记，其中定位线段所在的直线贯穿对位标记，解决了相关技术中需要向各个方向移动检出系视野才能找到对位标记，查找过程较为复杂，查找时间较长的问题；达到了能够简便快速的找到对位标记的效果。

应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本发明。

附图说明