[发明专利]对位标记搜寻方法、显示基板和显示装置

权利要求书

1.一种对位标记搜寻方法，其特征在于，用于搜寻衬底基板上的对位标记，所述衬底基板的虚拟区上形成有定位线段，所述定位线段所在直线贯穿所述对位标记，所述方法包括：

获取理论坐标；

以所述理论坐标为目标移动检出系视野至目标位置；

以垂直于所述定位线段的方向从所述目标位置移动所述检出系视野至所述定位线段出现在所述检出系视野中；

以所述定位线段的长度方向从所述定位线段处移动所述检出系视野至所述对位标记出现在所述检出系视野中。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述定位线段所在直线贯穿所述对位标记的中心，所述以垂直于所述定位线段的方向从所述目标位置移动所述检出系视野至所述定位线段出现在所述检出系视野中之后，所述方法还包括：

移动所述检出系视野，使所述检出系视野的中心位于所述定位线段上。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，

所述定位线段与所述对位标记在所述定位线段的长度方向上的距离小于所述检出系视野在所述定位线段的长度方向上的宽度。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，

所述定位线段有两条，两条所述定位线段所在的直线重合且两条所述定位线段位于所述对位标记的两侧。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述检出系视野为矩形，

两条所述定位线段之间的距离大于或等于所述检出系视野在任一所述定位线段的长度方向上的长度。

6.根据权利要求1至5任一所述的方法，其特征在于，

所述定位线段与所述对位标记是在一次构图工艺中形成的。

7.根据权利要求1至5任一所述的方法，其特征在于，所述衬底基板包括：

阵列基板中的衬底基板或彩膜基板中的衬底基板。

8.根据权利要求1至5任一所述的方法，其特征在于，所述方法用于构图工艺中。

9.一种显示基板，其特征在于，所述显示基板包括衬底基板，所述衬底基板的虚拟区上形成有定位线段，所述定位线段所在直线贯穿对位标记。

10.根据权利要求9所述的显示基板，其特征在于，所述定位线段所在直线贯穿所述对位标记的中心。

11.根据权利要求9所述的显示基板，其特征在于，

所述定位线段与所述对位标记在所述定位线段的长度方向上的距离小于所述检出系视野在所述定位线段的长度方向上的宽度。

12.根据权利要求9所述的显示基板，其特征在于，

所述对位标记的定位线段有两条，两条所述定位线段所在的直线重合且两条所述定位线段位于所述对位标记的两侧。

13.根据权利要求12所述的显示基板，其特征在于，

两条所述定位线段之间的距离大于或等于所述检出系视野在任一所述定位线段的长度方向上的长度。

14.根据权利要求9至13任一所述的显示基板，其特征在于，

所述定位线段与所述对位标记是在一次构图工艺中形成的。

15.根据权利要求9至13任一所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板包括：

阵列基板或彩膜基板。

16.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括权利要求9至15任一所述的显示基板。