[发明专利]基板处理装置

说明书

本发明提供一种基板处理装置。本发明要解决的问题在于进一步抑制微粒附着于基板。实施方式的基板处理装置包括输入输出室、输送室和交接室。输入输出室用于从承载件输入基板或者将基板输出至承载件。输送室形成有用于向基板处理室输送基板的输送路径，该基板处理室用于对基板实施规定的处理。交接室配置在输入输出室与输送室之间，用于基板的在输入输出室与输送室之间的交接。并且，交接室的内压高于输入输出室的内压和输送室的内压。

技术领域

本发明涉及一种基板处理装置。

背景技术

以往，已知有这样的基板处理装置：一边在形成有清洁空气的气流的清洁环境下输送半导体晶圆、玻璃基板这样的基板，一边对该基板实施清洗处理等规定的基板处理。

基板处理装置例如包括：输入输出室，其用于从承载件输入基板或者将基板输出至承载件；输送室，其与该输入输出室连通；以及多个基板处理室，其沿着该输送室配置。并且，输入输出室的内部和输送室的内部利用风机过滤单元等形成清洁空气的气流(例如，参照专利文献1)。

并且，在这样的清洁环境下抑制微粒附着于基板，并且利用设在输送室内的基板输送装置等以基板在承载件与基板处理室之间来往的方式输送基板。

另外，在输入输出室与输送室之间设有交接室，而将输入输出室与输送室连通起来。该交接室是所谓的缓冲区域，在该交接室的内部设有交接台，该交接台能够同时保持多张被例如输入输出室内的基板输送装置从承载件取出的基板。输送室内的基板输送装置用于从该交接台取出基板并向各基板处理室输送基板。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2011－119650号公报

发明内容

发明要解决的问题

但是，在使用所述以往技术的情况下，基板虽说是暂时但也停留在作为缓冲区域的交接室内，因此微粒附着于基板的可能性变高。因而，在进一步抑制微粒附着于基板这一方面，具有进一步改善的余地。

本发明的一技术方案的目的在于提供一种能够进一步抑制微粒附着于基板的基板处理装置。

用于解决问题的方案

本发明的一技术方案的基板处理装置包括输入输出室、输送室和交接室。输入输出室用于从承载件输入基板或者将基板输出至承载件。输送室形成有用于向基板处理室输送基板的输送路径，该基板处理室用于对基板实施规定的处理。交接室配置在输入输出室与输送室之间，用于基板的在输入输出室与输送室之间的交接。并且，交接室的内压高于输入输出室的内压和输送室的内压。

发明的效果

采用本发明的一技术方案，能够进一步抑制微粒附着于基板。

附图说明

图1是表示本实施方式的基板处理系统的概略结构的图。

图2是表示基板处理系统的具体结构的一例的示意图。

图3A是表示交接部、输入输出室和输送部这三者的内压差的示意图。

图3B是表示交接部、输入输出室和输送部各自内部的气流的方向的示意图。

图4A是表示交接部的供气排气机构的结构的一例的示意图(其一)。

图4B是表示交接部的供气排气机构的结构的一例的示意图(其二)。

图5A是表示输送部的供气排气机构的结构的一例的示意图(其一)。