[发明专利]基板处理装置

权利要求书

1.一种基板处理装置，其特征在于，

该基板处理装置包括：

输入输出室，其用于从承载件输入基板或者将基板输出至承载件；

输送室，其形成有用于向基板处理室输送基板的输送路径，该基板处理室用于对基板实施规定的处理；

交接室，其配置在所述输入输出室与所述输送室之间，用于基板的在该输入输出室与该输送室之间的交接，

所述交接室的内压高于所述输入输出室的内压和所述输送室的内压，

该基板处理装置具有配置在所述交接室的上方的供气装置和配置在该交接室的下方的排气装置，

在所述交接室的内部设有用于在所述输入输出室与所述输送室之间保持基板的交接台，并且在所述交接室的内部形成由所述供气装置和所述排气装置造成的清洁空气的下降流，

所述输送室具有与所述交接室相对的相对侧壁和设于该相对侧壁的供气装置，

所述输送路径形成为自所述交接室侧向所述相对侧壁侧延伸，

在所述输送室的内部由所述相对侧壁的供气装置和被设在所述交接室侧的排气装置形成自所述相对侧壁侧向所述交接室侧流动的清洁空气的侧流，

该基板处理装置包括排气路径，该排气路径设置在所述输入输出室的内部，并被设为用于对来自所述交接室的排气进行整流并且将其向该基板处理装置的外部引导。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

所述输送室在高度方向上呈多层地设有多个，

与所述输送室相应地，所述交接室在高度方向上呈多层地设有多个，

所述交接室分别独立地与所述供气装置及所述排气装置连结。

3.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

设在所述交接室侧的排气装置配置在所述交接室的下方。

4.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

设于所述相对侧壁的供气装置被设为能够从所述相对侧壁的整面供气。

5.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

所述交接台包括搁板，该搁板在高度方向上呈多层地设置，所述基板一张张地载置于各搁板。

6.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

该基板处理装置包括：

基板输送装置，其设在所述输送室的内部，沿着所述输送路径输送基板；

第二排气路径，其沿着所述输送路径设在该输送路径的下方；以及

第二排气装置，其分别设在所述第二排气路径的两端，

所述第二排气路径的两端的所述第二排气装置用于将从所述基板输送装置的周围排出到所述第二排气路径的空气经由该第二排气路径从所述交接室侧和所述相对侧壁侧这两侧排出。

7.一种基板处理装置，其特征在于，

该基板处理装置包括：

输入输出室，其用于从承载件输入基板或者将基板输出至承载件；

输送室，其形成有用于向基板处理室输送基板的输送路径，该基板处理室用于对基板实施规定的处理；

交接室，其配置在所述输入输出室与所述输送室之间，用于基板的在该输入输出室与该输送室之间的交接，

所述交接室的内压高于所述输入输出室的内压和所述输送室的内压，

该基板处理装置具有配置在所述交接室的上方的供气装置和配置在该交接室的下方的排气装置，

在所述交接室的内部设有用于在所述输入输出室与所述输送室之间保持基板的交接台，并且在所述交接室的内部形成由所述供气装置和所述排气装置造成的清洁空气的下降流，

所述输送室具有：开口侧壁，其具有与所述交接室连通的开口；相对侧壁，其与该开口侧壁相对；供气装置，其设在所述开口侧壁的所述开口的周围；以及排气装置，其设于所述相对侧壁，

在所述输送室的内部由所述开口侧壁的供气装置和所述相对侧壁的排气装置形成自所述开口侧壁侧向所述相对侧壁侧流动的清洁空气的侧流，

该基板处理装置包括排气路径，该排气路径设置在所述输入输出室的内部，并被设为用于对来自所述交接室的排气进行整流并且将其向该基板处理装置的外部引导。

8.根据权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于，

设于所述开口侧壁的供气装置被设为能够从所述开口的周围的整面供气。