[发明专利]一种类金刚石薄膜的磁靴增强磁控溅射镀膜装置及方法

权利要求书

1.一种类金刚石薄膜的磁靴增强磁控溅射镀膜装置，该装置包括磁控溅射靶（1），其特征在于所述磁控溅射靶（1）前设有磁靴（3），其中磁靴（3）由一对磁场相反的电磁铁组成，磁靴（3）产生的磁场平行于磁控溅射靶（1）的靶面。

2.如权利要求1所述的装置，其特征在于所述磁靴（3）产生的电磁场由恒流电源供电。

3.如权利要求1所述的装置，其特征在于所述磁控溅射靶（1）为金属靶。

4.如权利要求3所述的装置，其特征在于所述金属靶为钛、铬、钼或铌靶。

5.如权利要求1所述的装置，其特征在于所述磁控溅射靶（1）所用电源为直流、交流、中频脉冲、直流脉冲、或高功率脉冲电源。

6.使用如权利要求1至5任意一项所述装置制备类金刚石薄膜的方法，其特征在于：将基底、磁靴（3）、磁控溅射靶（1）置于真空腔体中，抽真空开始充气镀膜；开启磁控溅射靶（1），开启磁靴（3），基底在腔内做行星公转，首先制备金属粘结层；在氮气和氩气混合气氛下，调节气体流量比，制备一层金属氮化物强化层；通入甲烷或者乙炔气体，随着反应气体的增加，依次形成碳氮化金属层、金属掺杂的碳氮层及氮掺杂的类金刚石薄膜。