[发明专利]减少IGBT功率模块封装中GE短路的在线气相清洁装置及方法在审
| 申请号: | 201510673315.7 | 申请日: | 2015-10-16 |
| 公开(公告)号: | CN105280531A | 公开(公告)日: | 2016-01-27 |
| 发明(设计)人: | 冯会雨;徐凝华;曾雄;贺新强;李寒;程崛;李亮星;严璠;周铮;韩星尧 | 申请(专利权)人: | 株洲南车时代电气股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 | 代理人: | 张少辉;刘华联 |
| 地址: | 412001 湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 减少 igbt 功率 模块 封装 ge 短路 在线 清洁 装置 方法 | ||
1.一种减少IGBT功率模块封装中GE短路的在线气相清洁装置,其特征在于,包括:清洁腔体,所述清洁腔体设于键合点胶的上料轨道上,所述上料轨道用于传送芯片,其中,
所述清洁腔体内设置有吹气管道以及吸气管道,所述吹气管道的出风口设于芯片的至少其中一侧的斜上方,所述吸气管道的进风口对应地设于芯片的相对侧的斜上方。
2.根据权利要求1所述的减少IGBT功率模块封装中GE短路的在线气相清洁装置,其特征在于,所述的吹气管道的口径小于吸气管道的口径。
3.根据权利要求1所述的减少IGBT功率模块封装中GE短路的在线气相清洁装置,其特征在于,所述吹气管道包括:A组吹气管道和B组吹气管道,所述吸气管道包括:A组吸气管道和B组吸气管道;所述A组吹气管道设于垂直于芯片的进给方向的一侧,所述A组吸气管道设于垂直于芯片的进给方向的相对侧;所述B组吹气管道设于芯片的下游,所述B组吸气管道设于芯片的上游。
4.根据权利要求3所述的减少IGBT功率模块封装中GE短路的在线气相清洁装置,其特征在于,所述A组吹气管道的管道数量等于芯片的排数,所述B组吹气管道的管道数量等于芯片的列数。
5.根据权利要求3所述的减少IGBT功率模块封装中GE短路的在线气相清洁装置,其特征在于,所述A组吸气管道的吸气面积大于等于A组吹气管道的吹气面积,所述B组吸气管道的吸气面积大于等于B组吹气管道的吹气面积。
6.根据权利要求3所述的减少IGBT功率模块封装中GE短路的在线气相清洁装置,其特征在于,所述A组吹气管道和B组吹气管道均为并排布置。
7.根据权利要求3所述的减少IGBT功率模块封装中GE短路的在线气相清洁装置,其特征在于,所述A组吹气管道、A组吸气管道、B组吹气管道和B组吸气管道均能够在清洁腔体内进行水平及竖直的移动。
8.一种减少IGBT功率模块封装中GE短路的在线气相清洁方法,其采用权利要求1至7中任一项所述的在线气相清洁装置,其特征在于,所述的在线气相清洁方法包括以下步骤:
步骤一:打开清洁腔体,使所述B组吸气管道向下移动,使运送芯片的托盘工装沿上料轨道的方向运动至清洁腔体中;
步骤二:运送芯片的托盘工装完全进入清洁腔体,关闭清洁腔体,所述B组吸气管道向上移动至工作位置;
步骤三:打开所述A组吹气管道与所述A组吸气管道,A组吹气管道进行吹气动作,同时A组吸气管道进行吸气动作,形成气路,清洁芯片表面;
步骤四:关闭所述A组吹气管道与所述A组吸气管道,打开所述B组吹气管道与所述B组吸气管道,形成气路,继续清洁芯片表面。
9.根据权利要求8所述的减少IGBT功率模块封装中GE短路的在线气相清洁方法,其特征在于,还包括:
步骤五:多次依序重复步骤三和步骤四,使A组吹气管道、A组吸气管道与B组吹气管道、B组吸气管道轮流开启。
10.根据权利要求8所述的减少IGBT功率模块封装中GE短路的在线气相清洁方法,其特征在于,所述的A组吹气管道和B组吹气管道均使用高纯氮气,高纯氮气的气压范围是2Mpa至5Mpa。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





