[发明专利]移动体装置、物体处理装置、曝光装置、平板显示器的制造方法、及元件制造方法有效
申请号: | 201510651404.1 | 申请日: | 2011-09-05 |
公开(公告)号: | CN105372947B | 公开(公告)日: | 2018-06-12 |
发明(设计)人: | 青木保夫 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;F16C29/02;F16C29/00 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 任默闻 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 步进 定盘 基板 基板支承构件 曝光区域 载台 空气悬浮装置 投影光学系统 物体处理装置 非接触方式 平板显示器 移动体装置 基板载台 曝光装置 扫描方向 吸附保持 悬浮支承 元件制造 长行程 成基板 面位置 焦深 移动 配置 制造 | ||
于基板载台装置(PST)中,搭载于Y步进定盘(50)上的基板支承构件(60)保持基板(P)。基板支承构件(60)于Y步进定盘(50)上以长行程移动于扫描方向。基板(P)与曝光区域(IA)对应的部位被定点载台(80)从下方以非接触方式吸附保持,其他部位被配置于Y步进定盘(50)上的多台空气悬浮装置(70)悬浮支承。基板(P)与曝光区域(IA)对应的部位,通过定点载台(80)被控制成基板(P)的面位置位于投影光学系统的焦深内。
本申请为中国专利申请201180042791.9的分案申请,原申请的申请日为 2011年09月05日,发明名称为:移动体装置、物体处理装置、曝光装置、平板显示器的制造方法、及元件制造方法。
技术领域
本发明是关于一种移动体装置、物体处理装置、曝光装置、平板显示器的制造方法、及元件制造方法,更详言之,是关于使物体沿既定二维平面移动的移动体装置、对保持于该移动体装置的物体进行既定处理的物体处理装置、于保持于前述移动体装置的物体形成既定图案的曝光装置、使用前述曝光装置的平板显示器的制造方法、以及使用前述曝光装置的元件制造方法。
背景技术
以往,在制造液晶显示元件、半导体元件(集成电路等)等电子元件(微型元件)的微影制程中,主要使用例如步进重复方式的投影曝光装置(所谓步进机)、或步进扫描方式的投影曝光装置(所谓扫描步进机(亦称扫描机))等。
此种曝光装置,曝光对象的物体(玻璃板或晶圆(以下总称为“基板”))载置于基板载台装置上。之后,形成于光罩(或标线片)的电路图案,通过经由投影透镜等光学系统的曝光用光的照射而转印至基板(参照例如专利文献1)。
近年来,曝光装置的曝光对象物即基板、特别是液晶显示元件用的矩形玻璃板的尺寸例如为一边三公尺以上等,有大型化的倾向,伴随于此,基板载台装置亦大型化,其重量亦增大。因此,被期望开发出一种载台装置,能将曝光对象物(基板)高速且高精度地导引,且小型、轻量。
专利文献1:美国发明专利申请公开第2010/0018950号
发明内容
根据本发明的第1态样,提供一种移动体装置,其具备:第1移动体,可保持沿与水平面平行的既定二维平面配置的物体的端部,并且于至少前述二维平面内的第1方向以既定行程移动;以及第2移动体,包含在前述第1 移动体于前述第1方向的可移动范围内从下方支承前述物体的物体支承构件,并且能与前述第1移动体一起移动于在前述二维平面内与前述第1方向正交的第2方向。
根据所述装置,通过第1移动体于第1方向以既定行程移动,保持于该第1移动体的物体,则在被物体支承构件从下方支承的状态下于第1方向以既定行程移动。又,具有物体支承构件的第2移动体由于与第1移动体一起移动于第2方向,因此能将物体往第1方向及/或第2方向任意移动。由于物体在其可移动范围内随时被物体支承构件从下方支承,因此可抑制因自重导致的弯曲。是以,与将物体载置于具有与该物体相同程度面积的保持构件上并驱动该保持构件的情形相较,能使装置的重量以及尺寸缩减。
根据本发明的第2态样,提供一种物体处理装置,其具备:本发明的移动体装置;以及执行装置,为了进行与前述物体相关的既定处理,从与前述保持装置相反的侧对该物体中保持于前述保持装置的部分执行既定动作。
根据本发明的第3态样,提供一种曝光装置,其具备:本发明的移动体装置;以及通过能量束使前述物体曝光据以将既定图案形成于该物体上的图案形成装置。
根据本发明的第4态样,提供一种平板显示器的制造方法,其包含:使用上述第1曝光装置曝光作为前述物体而用于平板显示器装置的基板;以及显影曝光后的前述基板。
根据本发明的第5态样,提供一种元件制造方法,其包含:使用本发明的曝光装置曝光前述物体;以及显影曝光后的前述物体。
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