[发明专利]一种超精密抛光用微米亚微米抛光液的筛选方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种超精密抛光用微米亚微米抛光液的筛选方法，特别适用于古典法的超光滑表面抛光技术。属于光学冷加工领域。

背景技术

随着当代科技的发展，超精密光学元件在诸多尖端技术领域都有应用。高精度光学元件的应用主要集中在两个方面：一是X射线光学系统、紫外光学系统、化学激光系统、高功率激光系统等短波长光学和强光光学系统，二是激光陀螺反射镜等。这些系统中，为了减小散射损失和提高抗破坏阈值，所用的光学组件应是精密和超光滑的。

在超精密光学元件的常规加工中，最典型的三个过程就是铣磨、研磨和抛光。光学毛坯料首先经铣磨得到基本的外形尺寸后，进入研磨阶段；研磨过程包括所使用的磨料粒度由大到小、同时尺寸精度要求逐步提高的一系列工序，研磨中各道工序的严格控制是获得较好的表面质量的必要前提；抛光作为最后一道工序主要是去除研磨过程中产生的加工变质层，降低表面粗糙度，是实现光学元件超精密的关键一步。

抛光液主要是由去离子水和抛光粉配置而成的，有时为了提高抛光粒子的悬浮性、调节抛光液的pH值还加入些分散剂和添加剂等。在抛光过程中，抛光液不但起着机械磨削作用，还影响着抛光的化学作用过程。在抛光的起始阶段，工件表面的粗糙度较大，抛光粉的粒径也较大，这时机械磨削作用占主要地位，随着抛光的进行，工件表面变得平滑，大量的抛光粉颗粒开始与玻璃表面进行分子接触，由于抛光粉颗粒具有一定的化学活性，而工件外表层的材料与主体原子结合能又相对较弱，所以磨料颗粒可以去除工件表层原子。在抛光过程中磨料原子可能会扩散到工件的表面材料内，这将会使工件表面产生杂质层，严重影响表面质量，因此我们在对抛光粉的选择上，一定要注意磨料颗粒粒度、硬度和化学能活性的适宜性，尽量减小抛光粉颗粒的扩散效应。

抛光粉颗粒的硬度以及粒度尺寸的分布，对抛光效率和光学零件的表面质量有较大的影响。一般选用硬度较高粒径较小的磨料来获得较高的材料去除速率，但硬度较大时容易产生较大的表面损伤；抛光粉颗粒尺寸较大时，抛光效率较高，但加工出的工件表面粗糙度较高，尤其是颗粒尺寸分布不均匀时会大大增加表面产生划痕的几率。而且颗粒较大时一般流动性较差，容易产生分层、沉淀，即悬浮性较差，这对均匀抛光很不利。因此抛光粉的颗粒粒度应根据表面粗糙度要求进行合理选择，在抛光液的配置过程中要严格控制过大的粒径，对于最后超精密使用的抛光液要进行多次筛选。常用的抛光粉有氧化铁（Fe₂O₃）、氧化铈（CeO₂）、氧化铝（Al₂O₃）、氧化锆（Zr₂O₃）、氧化硅（SiO₂）等，虽然经过初步筛选，但是粒度分布并不完全均匀，从亚微米到几十微米不等。用于超光滑表面抛光的抛光液的磨料粒度要求在微米量级、亚微米级别，且粒度分布均匀，特别是要避免抛光粉中含有明显的大颗粒，以免产生抛光划痕，影响被加工元件的表面质量。因此如何选择合适的抛光液是超光滑表面抛光工艺中的重要部分，优化抛光液的粒度分布对获得有极低表面粗糙度的超光滑表面有着重要的意义。作为超光滑表面抛光工艺中的关键技术，粒度分布均匀性好的抛光液筛选配置方法和工艺基本未见报道。

因此，本发明提出一种超精密抛光用颗粒度为微米亚微米的氧化铈或氧化铁抛光液的筛选方法，该筛选方法采用磁力搅拌器对抛光液进行充分搅拌，并利用超声波清洗机对抛光液中团聚的抛光粉颗粒进行分散，对于微米级粒度分布的抛光液筛选效果好，有效避免了微米级抛光液中的微粒团聚，经过筛选的溶液粒度分布更均匀，粒径更小，用于超光滑表面抛光，不容易产生划痕，特别适用于古典法的超光滑表面抛光技术。

发明内容

本发明的目的是提出一种超精密抛光用颗粒度为微米亚微米的抛光液筛选方法。

本发明提出的一种超精密抛光用微米亚微米抛光液的筛选方法，所述方法用于古典法抛光超光滑表面用氧化铈、氧化铁、氧化铝抛光液的制备，具体步骤如下：

（1）称量一定重量的颗粒度分布为微米亚微米的抛光粉放入洁净容器中，加入适量的高纯去离子水，并混合得到抛光粉水溶液，去离子水与抛光粉的重量比大于10：1，高纯去离子水为18MΩ的去离子水；

（2）用洁净的磁力搅拌器搅拌抛光粉水溶液5～10分钟，使抛光粉水溶液充分混合，搅拌棒长度大于容器底部半径长度，搅拌速度大于500转/分钟；