[发明专利]液晶显示设备和电子设备有效
申请号: | 201510626161.6 | 申请日: | 2010-11-19 |
公开(公告)号: | CN105140245B | 公开(公告)日: | 2018-07-17 |
发明(设计)人: | 山崎舜平 | 申请(专利权)人: | 株式会社半导体能源研究所 |
主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12;H01L29/786 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 秦晨 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 液晶显示设备 晶体管 劣化 断态电流 氧化物半导体层 电子设备 功耗 沟道形成区 高纯度 外部 像素 | ||
1.一种液晶显示设备,其特征在于,具有:
晶体管,所述晶体管在氧化物半导体层中具有沟道形成区;
液晶元件,所述液晶元件经由所述晶体管被输入图像信号,
在所述晶体管的截止状态中,所述图像信号经由所述晶体管的泄漏的量比所述图像信号经由所述液晶元件的泄漏的量小,
在形成有所述晶体管的衬底的温度为85℃时,沟道长度为3μm以上、漏极电压为6V且栅极电压为-10V的情况下的所述晶体管的每1μm沟道宽度的断态电流在1×10-16A/μm以下。
2.一种液晶显示设备,其特征在于,具有:
晶体管,所述晶体管在氧化物半导体层中具有沟道形成区;
液晶元件,所述液晶元件经由所述晶体管被输入图像信号,
在所述晶体管的截止状态中,所述图像信号经由所述晶体管的泄漏的量比所述图像信号经由所述液晶元件的泄漏的量小,
分别在形成有所述晶体管的衬底的温度为-30℃时以及在所述衬底的温度为120℃时,沟道长度为3μm以上、漏极电压为6V且栅极电压为-10V的情况下的所述晶体管的每1μm沟道宽度的断态电流在1×10-16A/μm以下。
3.一种液晶显示设备,其特征在于,具有:
晶体管,所述晶体管在氧化物半导体层中具有沟道形成区;
液晶元件,所述液晶元件经由所述晶体管被输入图像信号,
在所述晶体管的截止状态中,所述图像信号经由所述晶体管的泄漏的量比所述图像信号经由所述液晶元件的泄漏的量小,
分别在形成有所述晶体管的衬底的温度为0℃、25℃、40℃、60℃、80℃以及100℃时,沟道长度为3μm以上、源极-漏极间电压为6V且栅极电压为-10V的情况下的所述晶体管的每1μm沟道宽度的断态电流在1×10-16A/μm以下。
4.一种液晶显示设备,其特征在于,具有:
晶体管,所述晶体管在氧化物半导体层中具有沟道形成区;
液晶元件,所述液晶元件经由所述晶体管被输入图像信号,
在所述晶体管的截止状态中,所述图像信号经由所述晶体管的泄漏的量比所述图像信号经由所述液晶元件的泄漏的量小,
在形成有所述晶体管的衬底的温度为室温时,沟道长度为3μm以上、源极-漏极间电压为10V且栅极电压在-20V至-5V之间变化的情况下的所述晶体管的每1μm沟道宽度的断态电流在1×10-17A/μm以下。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的液晶显示设备,其特征在于,
所述氧化物半导体层的氢浓度在1×1016atoms/cm3以下。
6.根据权利要求1至4中任一项所述的液晶显示设备,其特征在于,
所述氧化物半导体层的载流子密度小于1×1014/cm3。
7.根据权利要求1至4中任一项所述的液晶显示设备,其特征在于,
所述氧化物半导体层的带隙在2.0eV以上。
8.根据权利要求1至4中任一项所述的液晶显示设备,其特征在于,
所述氧化物半导体层被i型化或者基本i型化。
9.根据权利要求1至4中任一项所述的液晶显示设备,其特征在于,
还具有保持与所述图像信号对应的电压的电容器。
10.一种电子装置,其特征在于,具有:
根据权利要求1至4中任一项所述的液晶显示设备;以及
操作按钮、壳体、扬声器或者天线。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的