[发明专利]一种表面活性剂及用于彩色滤光片负性光刻胶的显影液

说明书

技术领域

本发明涉及一种化合物及显影液，特别是涉及一种表面活性剂及用于彩色滤光片负性光刻胶的显影液。

背景技术

随着显示技术的快速发展，平板显示器以其完全不同的显示原理和制造技术使之同传统的视频图像显示器相比具有非常明显的优势。平板显示器具有完全平面化、轻、薄、省电等特点，符合未来图像显示器发展的必然趋势。目前主要的平板显示器包括:PDP(Plasmadisplaypanel)、LCD(Liquidcrystaldisplays)、FED(Fieldemissiondisplays)、OLED(Organiclight-emittingdiodedisplays)以及投影显示技术（CRT、LCD、LCOS、DLP）等。

LCD器件是众多平板显示器件中发展最快、技术最成熟、应用面最广、已经产业化并仍在迅猛发展的一种显示器件，随着半导体技术的不断发展，人们已成功地将半导体技术与LCD技术结合在一起，从而产生了LCD的一个新兴产业TFT-LCD。由于LCD具有超薄、省电、显示画质好的优点，大小皆宜的尺寸，从而使液晶显示器得到了广泛的应用。

彩色滤光片，是彩色液晶显示器（LCD）由灰阶变为彩色的关键零组件，借由LCD内部的背光模组提供光源，再搭配驱动IC与液晶控制形成灰阶显示，将光源穿过彩色滤光片的彩色图案形成彩色显示画面。

彩色滤光片的结构包括玻璃基板、黑色矩阵、彩色层、保护膜及ITO导电膜，此光电组件是在透明玻璃基板上制作防反射的遮光层-黑色矩阵层，再依次制作具有透光性能的红、绿、蓝三原色的彩色滤光片层，最后通过溅射工艺覆上透明ITO导电膜成为彩色滤光片。

彩色滤光片的传统制程主要有染色法（DyingMethod）、颜料分散法（PigmentDispersingMethod）、电沉积法（ElectroDepositionMethod）、印刷法（PrintingMethod），其中颜料分散法已逐步发展为主流技术。

颜料分散法之彩色层形成类似半导体的光刻制程，首先将颜料分散型彩色光刻胶涂布于已形成黑色矩阵的玻璃基板上，经软烤（Pre-bake）、曝光对准（Aligning）、显影（Developing）、光刻胶剥离（Stripping）、硬烤（Post-bake），重复此流程三次形成R，G，B之三色图形（Pattern）。

平板显示技术中精细图案的获得，一般是通过光刻技术实现。光刻技术包括光刻胶的曝光、显影等工艺。由于光刻胶在曝光前后在显影液的溶解性能会有不同，因此进行曝光后，光刻胶的曝光区与未曝光区依赖于溶解性能的不同，分为可溶区和不溶区。可溶区溶于光刻胶显影液，而不溶区留下。即光刻胶可以根据曝光的图形选择性的溶于光刻胶显影液，从而形成需要的图形。而为了获得良好的图案，需要对光刻胶进行高精度的显影，因此对光刻胶显影液的显影性提出更高的要求。

在彩色滤光片的制造工艺中，可以采用正性或负性光刻胶。曝光后，见光部分发生化学或物理变化形成图形而不溶解于显影液，未见光部分可溶解于显影液的光刻胶称为负性光刻胶，反之则称为正性光刻胶。

通常情况下，光刻胶为疏水性，曝光后由于光刻胶的可溶区被不溶区包围，显影液由于表面张力的作用，很难充分接触到可溶区，尤其是两者边缘部分，造成图形边缘的可溶性光刻胶溶解不充分，图案边缘部分显影差，使显影液的显影性降低。

现有技术中，为了提高显影液对光刻胶可溶区的溶解性，以提高显影液的显影性，通常在显影液中添加表面活性剂，添加表面活性剂能够显著降低显影液的表面张力，改善显影液对光刻胶的润湿性，使曝光后光刻胶的可溶区具有了很好的溶解性。在显影过程中，光刻胶剥落的微细残渣可能沉积在基体表面，影响滤光片的透光率，显影液中的表面活性剂可以有效防止残渣集聚。

一般来说，表面活性剂改善显影液润湿性的能力越强，越容易产生大量的泡沫。在显影过程中，一旦泡沫附着在光刻胶表面，会影响显影的均匀性，使图形的上表面产生厚度差异。添加消泡剂虽然可以减轻泡沫产生程度，但消泡剂也会对图形部分造成侵蚀。一个比较好的解决方案是选用低泡沫的表面活性剂。

发明内容

本发明主要解决的技术问题是提供一种表面活性剂及用于彩色滤光片负性光刻胶的显影液，采用此表面活性剂制得的显影液显影效果好。