[发明专利]COA基板及其制备方法、显示装置在审
| 申请号： | 201510601707.2 | 申请日： | 2015-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN105093760A | 公开（公告）日： | 2015-11-25 |
| 发明（设计）人： | 操彬彬;黄寅虎;张福刚 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 柴亮;张天舒 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | coa 及其 制备 方法 显示装置 | ||
1.一种COA基板的制备方法，包括在基底上方形成黑矩阵的步骤，其特征在于，所述形成黑矩阵的步骤包括：
在基底上方的形成透明材料层，并对所述透明材料层进行图案化；
对图案化的透明材料层进行炭化处理，形成黑矩阵。
2.根据权利要求1所述的COA基板的制备方法，其特征在于，所述透明材料层的材料为光刻胶。
3.根据权利要求1所述的COA基板的制备方法，其特征在于，所述炭化处理的方式为真空退火；其中，退火温度为150～300摄氏度，时间为10～45分钟。
4.根据权利要求1COA基板的制备方法，其特征在于，所述炭化处理的方式为离子轰击。
5.根据权利要求1-4中任意一项所述的COA基板的制备方法，其特征在于，所述形成黑矩阵的步骤之前还包括：
在基底上，通过构图工艺形成包括薄膜晶体管、栅线、数据线的图形；
在完成上述步骤的基底上形成阻挡层。
6.根据权利要求1-4中任意一项所述的COA基板的制备方法，其特征在于，所述形成黑矩阵的步骤之后还包括：
通过构图工艺形成彩色滤光片的步骤。
7.根据权利要求6所述的COA基板的制备方法，其特征在于，所述形成彩色滤光片的步骤之后还包括：
形成平坦化层的步骤；
在形成平坦化层的基底上，通过构图工艺形成像素电极的步骤。
8.一种COA基板，包括基底，设置在基底上的黑矩阵，其特征在于，所述COA基板采用权利要求1-7中任一项所述的COA基板的制备方法形成。
9.根据权利要求8所述的COA基板，其特征在于，所述透明材料层的材料为光刻胶。
10.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括权利要求8或9所述的COA基板。
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