[发明专利]抗菌改性低收缩牙科修复树脂及其制备方法

权利要求书

1.一种抗菌改性低收缩牙科修复树脂，其特征在于，由甲基丙烯酸酯类单体、稀释剂及环氧体系、引发剂和抗菌添加剂制备而成，其中：

甲基丙烯酸酯类单体占整个树脂体系质量的40～60％；

稀释剂及环氧体系占整个树脂体系质量的30～50％；

引发剂占整个树脂体系质量的1～5％；

抗菌添加剂占整个树脂体系质量的1～7％。

2.根据权利要求1所述的抗菌改性低收缩牙科修复树脂，其特征在于，所述的甲基丙烯酸酯类单体为双酚A-二甲基丙烯酸缩水甘油酯Bis-GMA。

3.根据权利要求1所述的抗菌改性低收缩牙科修复树脂，其特征在于，所述的稀释剂及环氧体系包含膨胀单体和环氧树脂，膨胀单体和环氧树脂的质量比为(1～4):4，其中环氧树脂为3,4-环氧环己基甲基-3,4-环氧环己基甲酸酯、甲基二[2-(7-氧杂二环[4.1.0]庚-3-基)-乙基]苯基硅烷或2,4,6,8-四甲基-2,4,6,8-四[2-(7-氧杂二环[4.1.0]庚-3-基)-乙基]-1,3,5,7-四氧杂-2,4,6,8-四硅环丁烷，膨胀单体为3,9-二乙基-3,9-丙烯氧甲基-1,5,7,11-四氧螺杂[5,5]十一烷。

4.根据权利有求1所述的抗菌改性低收缩牙科修复树脂，其特征在于，所述的引发剂为三元光敏引发体系。

5.根据权利要求1所述的抗菌改性低收缩牙科修复树脂，其特征在于，所述的抗菌添加剂为含双键的六氟磷酸根季铵盐，化学通式如下：

其中，在以上化学通式中，

R₁＝H或CH₃；

R₂＝CH₂CH₂、CH₂CH₂CH₂或CH(CH₃)CH₂；

R₃＝烷基或苄基，其中烷基＝甲基，正丁基，正己基，正辛基，正十二烷基或正十六烷基；

R₄＝H、CH₃、CH₂CH₃或无；

n＝2或3。

6.根据权利要求4所述的抗菌改性低收缩牙科修复树脂，其特征在于，所述三元光敏引发体系包含光致酸性化合物、可见光光敏剂和电子供体化合物组，光致酸性化合物为二芳基碘鎓六氟磷酸盐、三芳基硫鎓六氟磷酸盐或三芳基硒鎓六氟磷酸盐，可见光光敏剂为樟脑醌、二苯酮、苯乙酮、安息香醚或硫杂蒽醌，电子供体化合物为N,N一二甲胺基甲基丙烯酸乙酯、二甲基乙烯基胺苯酸或N,N一二甲基对乙烯基苯胺，其中光致酸性化合物、可见光光敏剂和电子供体化合物质量比为(1～3):(0.1～1):0.1。