[发明专利]一种亚光釉及制作工艺在审

专利信息
申请号: 201510533644.1 申请日: 2015-08-27
公开(公告)号: CN105174718A 公开(公告)日: 2015-12-23
发明(设计)人: 林建华 申请(专利权)人: 福建省德化明英华陶瓷有限公司
主分类号: C03C8/00 分类号: C03C8/00;C04B41/86
代理公司: 北京同辉知识产权代理事务所(普通合伙) 11357 代理人: 赵慧
地址: 362500 福建*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 亚光 制作 工艺
【权利要求书】:

1.一种亚光釉,其特征在于,由透明釉釉料、高膨胀釉釉料和苏州高岭土按1:3~5:1~3的质量比组成,

所述透明釉釉料由以下原料按质量百分比制作而成:二氧化硅50~60%,氧化铝6~14%,钾长石6~10%,钠长石3~7%,碳酸钙5~9%,硼砂6~10%,碳酸钡4~8%;

所述高膨胀釉釉料由以下原料按质量百分比制作而成:二氧化硅30~40%,氧化铝15~25%,钾长石4~8%,钠长石4~8%,碳酸钙10~20%,硼砂6~10%,碳酸钡8~12%。

2.一种如权利要求1所述的亚光釉的制作工艺,其特征在于,具体制作步骤如下:

(1)制备釉料:将透明釉釉料的原料分别进行粉碎,然后混合均匀放入球磨机中进行研磨4~6h;将高膨胀釉釉料的原料分别进行粉碎,然后混合均匀放入球磨机中进行研磨3~5h;将透明釉釉料、高膨胀釉釉料和球磨后的苏州高岭土按比例混合均匀制得混合料,再按混合料:水为1:0.75~0.85的质量比进行加水,并搅拌4~6h,球磨过200~250目的网筛,制得裂纹釉釉料;

(2)施釉:在瓷坯体表面喷涂亚光釉釉料,釉层的厚度在0.8~1.2mm;

(3)烧制:将上釉后的瓷坯体送入烤窑内烧制,烧制温度为1150~1200℃,烧制时间为12~16h,出窑冷却后得亚光釉釉面效果的烧制品。

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