[发明专利]偏光板及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201510522384.8 申请日: 2015-08-24
公开(公告)号: CN105834884B 公开(公告)日: 2017-12-12
发明(设计)人: 陈志添;黄怡菱;陈彦年;李愷澄 申请(专利权)人: 住华科技股份有限公司
主分类号: B24B37/00 分类号: B24B37/00;B24B37/005;B24B9/10;G02B5/30
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司11006 代理人: 梁挥,祁建国
地址: 中国台湾台南*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 偏光 及其 制造 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种偏光板及其制造方法,且特别涉及一种具有良好尺寸精准度且不溢胶的偏光板及其制造方法。

背景技术

显示器中的偏光板可改变光线的偏振方向,而可提升显示器的效能,且达成不同的显示技术,例如:三维显示器或液晶显示器等的显示技术。一般现有的偏光板包含偏光膜、黏胶层及离型层,且黏胶层是设置于偏光膜及离型层之间。其中,偏光膜可藉由黏胶层与其他光学膜片贴合,且离型层可避免偏光板的黏胶层与其他物体沾黏,而提升偏光板的运输便利性。

为了量产并满足各种尺寸的光学膜片的需求,多片偏光板可先堆叠成积层体,再同时将积层体裁剪为适当的尺寸。

然而,当进行前述的裁切制程时,由于偏光板的机械性质较为柔韧,裁切时所施加的压力会使得积层体的各个偏光板产生些微偏移,而降低裁剪后的尺寸精准度,进而降低后续制得的显示器的效能。此外,裁切时所施加的压力会使得裁剪后偏光板的黏胶层容易由侧边溢胶,而使得偏光板彼此沾黏或沾黏其他物体,降低偏光板的品质。

有鉴于此,极须提供一种偏光板及其制造方法,以改进现有偏光板及其制造方法的缺陷。

发明内容

因此,本发明的目的在于提供一种偏光板的制造方法,其是利用研磨设备研磨积层体,而可制得具有良好尺寸精准度且不易溢胶的偏光板。

一种偏光板的制造方法,包含:提供一研磨设备,其中研磨设备包含:一基座,包含一基座顶面;一固定装置;以及一研磨装置,包含一研磨面、一中心轴及一基准线,其中研磨装置具有一半径,且基准线垂直于中心轴的延伸方向;将一积层体置于基座的基座顶面上,其中积层体包含一偏光单元、一边缘及一研磨起始位置;利用固定装置及基座挟持积层体,其中固定装置至基座顶面具有一最小挟持距离,最小挟持距离可具有一中点位置,且中点位置、中心轴与基准线为共平面;进行一研磨步骤,其中研磨步骤是利用研磨面自研磨起始位置研磨积层体的至少一边缘,以去除积层体的部分边缘,而制得至少一偏光板。

以下结合附图和具体实施例对本发明进行详细描述,但不作为对本发明的限定。

附图说明

图1绘示依照本发明的一实施例的偏光板的制造方法的流程图;

图2a绘示依照本发明的一实施例的研磨设备的立体图。

图2b绘示依照本发明的一实施例的研磨设备的侧视图。

图3a绘示依照本发明的一实施例的将积层体置于研磨设备的基座的侧视图;

图3b绘示依照本发明的一实施例的偏光单元的局部剖面图;

图3c绘示依照本发明的一实施例的进行研磨步骤时的研磨设备的侧视图;

图4a绘示依照本发明的另一实施例的固定装置及基座挟持积层体的侧视图;

图4b绘示依照本发明的又一实施例的固定装置及基座挟持积层体的侧视图;

图5a绘示依照本发明的制造方法所制得的一偏光板的局部剖面图;

图5b绘示依照本发明的制造方法所制得的另一偏光板的局部剖面图。

其中,附图标记

100:方法

110:提供研磨设备的步骤

120:将积层体置于基座顶面,使积层体的偏光单元平行基座顶面的步骤

130:利用固定装置及基座挟持积层体的步骤

140:判断积层体的第一高度是否小于挟持距离的步骤

140a:将堆叠件设于积层体的上表面或下表面,以使堆叠件的第二高度与第一高度的总和等于挟持距离

150:进行研磨步骤

160:移除固定装置的步骤

170:制得偏光板的步骤

200:研磨设备210:基座

210a:基座顶面 220:固定装置

230:研磨装置230a:第一旋转方向

230b:第二旋转方向 231:研磨面

232:中心轴232a:延伸方向

233:基准线300:积层体

300a:上表面 300b:下表面

300c:边缘 310:偏光单元

310a:光学薄膜 310b:黏着薄膜

310c:离型层 400:堆叠件

500a/500b:偏光板510:光学薄膜

510a/510b:外缘部520:离型层

520a/520b:外缘部530:黏着薄膜

530a/530b:外缘部531:第一黏着薄膜

531a/531b:外缘部533:第二黏着薄膜

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于住华科技股份有限公司,未经住华科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510522384.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top