[发明专利]偏光板及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201510522384.8 申请日: 2015-08-24
公开(公告)号: CN105834884B 公开(公告)日: 2017-12-12
发明(设计)人: 陈志添;黄怡菱;陈彦年;李愷澄 申请(专利权)人: 住华科技股份有限公司
主分类号: B24B37/00 分类号: B24B37/00;B24B37/005;B24B9/10;G02B5/30
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司11006 代理人: 梁挥,祁建国
地址: 中国台湾台南*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 偏光 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种偏光板的制造方法,其特征在于,包含:

提供一研磨设备,其中该研磨设备包含:

一基座,包含一基座顶面;

一固定装置;及

一研磨装置,包含一研磨面、一中心轴及一基准线,其中该研磨装置具有一半径,且该基准线垂直于该中心轴的延伸方向;

将一积层体置于该基座的该基座顶面上,其中该积层体包含一偏光单元、一边缘及一研磨起始位置;

利用该固定装置及该基座挟持该积层体,其中该固定装置至该基座顶面具有一挟持距离,该挟持距离可具有一中点位置,且该中点位置、该中心轴与该基准线为共平面;以及

进行一研磨步骤,其中该研磨步骤是利用该研磨面自该研磨起始位置研磨该积层体的至少一边缘,以去除该积层体的部分边缘,而制得该至少一偏光板,其中该研磨起始位置与该中心轴的连线及该基准线所形成的夹角可定义为一切入角θ,且该切入角θ满足下式(I):

θ=sin-1(D2×1R)---(I)]]>

于该式(I)中,该D代表该挟持距离,该R代表该研磨装置的该半径,该切入角θ为-70°至70°。

2.根据权利要求1所述的偏光板的制造方法,其特征在于,该积层体具有一第一高度,且该第一高度小于或等于该挟持距离。

3.根据权利要求1所述的偏光板的制造方法,其特征在于,该积层体包含一上表面与一下表面,且该上表面与下表面分别与该边缘相邻,且其中该研磨面由该积层体的该上表面往该积层体的该下表面方向研磨该边缘,或该研磨面由该积层体的该下表面往该积层体的该上表面方向研磨该边缘。

4.根据权利要求1所述的偏光板的制造方法,其特征在于,该研磨装置的两倍半径与该挟持距离具有一比值,且该比值介于1/15~1/3之间。

5.根据权利要求1所述的偏光板的制造方法,其特征在于,该至少一偏光板包含:

一光学薄膜,具有一第一外缘部;

一离型层,具有一第二外缘部,且该第二外缘部对齐该第一外缘部;以及

一第一黏着薄膜,具有一第三外缘部及一第一厚度,且该第一黏着薄膜设于该光学薄膜及该离型层之间,其中该第一黏着薄膜的第三外缘部分别较该第一外缘部或该第二外缘部内缩,且具有一第一最大内缩距离,其中该第一最大内缩距离与该第一黏着薄膜的该第一厚度比值大于0且不超过1.8。

6.根据权利要求5所述的偏光板的制造方法,其特征在于,该第一黏着薄膜的该第三外缘部呈一不规则面、一连续曲面、一圆弧面或一锯齿面,且该第三外缘部包含一曲面区域。

7.根据权利要求5所述的偏光板的制造方法,其特征在于,该至少一偏光板更包含:

一第二黏着薄膜,具有一第四外缘部及一第二厚度,且该第二黏着薄膜设于该光学薄膜相对于该第一黏着薄膜的另一侧;以及

一第二离型层,设置于该第二黏着薄膜相对于该光学薄膜的另一侧,且该一第二离型层具有一第五外缘部,且该第五外缘部对齐该第一外缘部,其中该第二黏着薄膜的第四外缘部分别较该第一外缘部或该第五外缘部内缩,且具有一第二最大内缩距离,其中该第二最大内缩距离与该第二黏着薄膜的该第二厚度比值大于0且不超过1.8。

8.根据权利要求7所述的偏光板的制造方法,其特征在于,该第一厚度与该第二厚度不相等。

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