[发明专利]一种移除光刻胶的方法在审
| 申请号： | 201510521779.6 | 申请日： | 2015-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN105093864A | 公开（公告）日： | 2015-11-25 |
| 发明（设计）人： | 陈哲;张睿;王者馥;王绪敏;殷金龙;任鲁风 | 申请（专利权）人： | 北京中科紫鑫科技有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42;G03F7/26 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 101111 北京市大兴区经济技术*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种移除光刻胶的方法，其特征在于，包括以下步骤：
使用湿法刻蚀去除光刻胶；
使用酸溶液洗涤涂有光纤面板的光刻胶；
加热碱溶液，使用碱溶液浸泡洗涤；
向碱溶液中持续通入臭氧；
使用高锰酸钾溶液浸泡洗涤；
使用有机溶剂浸泡；
使用去离子水冲洗。
2.如权利要求1所述的移除光刻胶的方法，其特征在于，所述酸溶液为次氯酸溶液、高氯酸溶液、氢氟酸溶液或硝酸溶液。
3.如权利要求1所述的移除光刻胶的方法，其特征在于，所述碱溶液为氢氧化钠溶液、氢氧化钾溶液和氨水溶液中的一种或几种。
4.如权利要求1所述的移除光刻胶的方法，其特征在于，加热碱溶液的温度为70-90℃，使用碱溶液洗涤10分钟以上。
5.如权利要求1所述的移除光刻胶的方法，其特征在于，通入臭氧的时间为20分钟以上。
6.如权利要求1所述的移除光刻胶的方法，其特征在于，所述在高锰酸钾中浸泡洗涤10分钟以上。
7.如权利要求1所述的移除光刻胶的方法，其特征在于，所述有机溶剂为正己烷和N-N二甲基甲酰胺中的一种或两种。
8.如权利要求1所述的移除光刻胶的方法，其特征在于，使用有机溶剂浸泡的时间为1小时以上。
9.如权利要求1所述的移除光刻胶的方法，其特征在于，使用有机溶剂浸泡的温度为40-55℃。
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