[发明专利]一种光斑转换器及光学装置有效

专利信息
申请号: 201510516253.9 申请日: 2015-08-20
公开(公告)号: CN106468810B 公开(公告)日: 2019-12-06
发明(设计)人: 沈百林;李蒙;张琦 申请(专利权)人: 中兴通讯股份有限公司
主分类号: G02B6/42 分类号: G02B6/42;G02B27/09
代理公司: 11262 北京安信方达知识产权代理有限公司 代理人: 张建秀;栗若木<国际申请>=<国际公布>
地址: 518057 广东省深圳市南山*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 光斑转换器 光学装置 亚波长光栅 二氧化硅 折射率比 折射率 覆盖 加工
【说明书】:

发明公开了一种光斑转换器及光学装置,包括:第一芯以及覆盖在第一芯上的第二芯,第一芯为亚波长光栅,第二芯为折射率比二氧化硅的折射率大第一比例的材料,其中,第一比例为大于或等于2%且小于或等于10%。本发明公开的光斑转换器及光学装置,用来解决现有技术的光斑转换器加工难度大的问题。

技术领域

本发明涉及光通信领域,尤其涉及一种光斑转换器及光学装置。

背景技术

硅光芯片与光纤的耦合非常重要,常见的耦合方式包括垂直耦合和边缘耦合。垂直耦合即光栅耦合,具有容易加工、损耗大、带宽受限等特点;边缘耦合采用光斑转换器(SSC,Spot Size Converter)实现小尺寸硅波导(如,400nm×200nm)和大尺寸光纤(如直径约10μm)之间的直接耦合,具有损耗小、偏振无关、工作带宽大、加工难度大等特点。

目前,光斑转换器通常基于楔形波导实现,然后在上面再增加一层比二氧化硅(SiO2)折射率较大的材料实现过渡,横截面尺寸大约是3μm×3μm,再匹配模场直径约3μm的透镜光纤,来实现硅光芯片和单模光纤的耦合。图1为现有技术的光斑转换器。在图1所示的双芯(double core,或者叫overlay)光斑转换器中,第一芯为楔形波导(taper),第二芯为聚合物(polymer core)。采用双芯结构的光斑转换器降低了和外接光纤的对准难度,但为了实现低损耗耦合,楔形波导(taper)的尖端(tip)往往要求小于100nm,导致加工时难度非常大。

发明内容

为了解决上述技术问题,本发明提供一种光斑转换器及光学装置,用来解决现有技术的光斑转换器加工难度大的问题。

为了达到上述技术目的,本发明提供一种光斑转换器,包括:第一芯以及覆盖在第一芯上的第二芯;所述第一芯为亚波长光栅;所述第二芯为折射率比二氧化硅的折射率大第一比例的材料,所述第一比例为大于或等于2%且小于或等于10%。

进一步地,所述亚波长光栅的始端与常规波导通过桥接波导方式相连,所述亚波长光栅的末端靠近耦合光纤。

进一步地,所述亚波长光栅的有效折射率从始端至末端逐渐减小,所述始端的有效折射率与所述常规波导的折射率相同,所述末端的有效折射率比二氧化硅的折射率大第二比例,所述第二比例为小于或等于20%。

进一步地,所述第二芯的长度大于所述第一芯的长度。

进一步地,所述第二芯的尺寸与外接的耦合光纤的尺寸匹配。

进一步地,所述亚波长光栅将光斑放大到所述第二芯的尺寸,外接的耦合光纤将光聚焦到第二芯的尺寸。

进一步地,所述亚波长光栅的周期为300nm,占空比为50%,最小宽度为300nm,最大宽度为500nm。

进一步地,上述光斑转换器还包括:覆盖在所述第二芯上的二氧化硅覆盖层。

进一步地,上述光斑转换器还包括:二氧化硅埋层以及设置在所述二氧化硅埋层下面的硅基底,所述第一芯及所述第二芯位于二氧化硅埋层上,所述第二芯覆盖第一芯未和二氧化硅埋层接触的所有表面。

本发明还提供一种光学装置,包括:上述光斑转换器以及耦合光纤,耦合光纤耦接在所述光斑转换器的所述第二芯的侧边端面。

进一步地,所述耦合光纤为透镜光纤。

本发明提供的光斑转换器包括第一芯及覆盖在第一芯上的第二芯,第一芯为亚波长光栅,第二芯为折射率比二氧化硅的折射率大第一比例的材料,第一比例为大于或等于2%且小于或等于10%。本发明提供的光斑转换器相较于现有技术,与偏振无关、损耗小、串扰小、生产工艺较简单。而且,在本发明实施例中,器件最小尺寸能够小于现有加工工艺的特征尺寸,加工难度小。

附图说明

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