[发明专利]釉面瓷砖及其制备方法有效
| 申请号: | 201510510528.8 | 申请日: | 2015-08-19 |
| 公开(公告)号: | CN105130394B | 公开(公告)日: | 2017-08-04 |
| 发明(设计)人: | 伍健威;尹娟 | 申请(专利权)人: | 深圳市正源清环境科技有限公司 |
| 主分类号: | C04B33/132 | 分类号: | C04B33/132;C04B33/34 |
| 代理公司: | 深圳瑞天谨诚知识产权代理有限公司44340 | 代理人: | 温青玲 |
| 地址: | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 釉面 瓷砖 及其 制备 方法 | ||
1.一种釉面瓷砖,其由坯料和釉料加工而成,其特征在于:所述坯料包括如下重量百分比的组分:
所述釉料包括如下重量百分比的组分:
熔块 75-85%
膨润土 5-15%
长石 2-10%;
以所述熔块组分总重量为100%计,所述熔块包括如下重量百分比的组分:
2.根据权利要求1所述的釉面瓷砖,其特征在于,所述熔块由如下方法制备获得:根据所述熔块所含组分称取各原料组分,粉碎至20-40目颗粒后进行混料处理形成熔块粉料;将所述熔块粉料于1030-1300℃烧制处理后进行速冷淬制成熔块。
3.根据权利要求1-2任一所述的釉面瓷砖,其特征在于:所述坯料含的所述厌氧消化污泥中的有机物含量VS/TS≤25%,含水率≤80%;和/或
所述坯料含的所述厌氧消化污泥是经温度为33-37℃、水力停留时间≥30d发酵处理后的消化污泥。
4.根据权利要求1-2任一所述的釉面瓷砖,其特征在于:以所述坯料含的所述厌氧消化污泥组分总重量为100%计,所述厌氧消化污泥组分包括如下重量百分比的组分:
5.根据权利要求1-2任一所述的釉面瓷砖,其特征在于:所述坯料含的所述粘土为叶腊石类粘土、伊利石类粘土、膨润土中的至少一种;和/或
所述坯料含的所述滑石是经1200-1250℃下热处理以破坏鳞片状结构的滑石。
6.根据权利要求5所述的釉面瓷砖,其特征在于:以所述粘土总重量为100%计,所述粘土含20%≤Al2O3≤30%,0.2%≤K2O+Na2O≤0.7%,0.1%≤Fe2O3≤1%,0.2%≤TiO2≤0.6%;和/或
以所述硅灰石总重量为100%计,所述硅灰石含50%≤SiO2≤53%,40%≤CaO≤45%,0.2%≤Fe2O3+TiO2≤0.5%;和/或
以所述滑石总重量为100%计,所述滑石含30%≤MgO≤33%,0.2%≤Fe2O3+TiO2≤0.5%,0.2%≤CaO≤1.5%。
7.如权利要求1-6任一所述的釉面瓷砖制备方法,包括如下步骤:
根据所述坯料和釉料所含的组分对原料进行预处理后,分别配制坯料和釉料;
将所述坯料经压制处理成坯体后依次进行干燥、素烧处理;
对经所述素烧处理后的所述坯体依次进行施釉处理、釉烧处理。
8.根据权利要求7所述的釉面瓷砖制备方法,其特征在于:
所述原料进行预处理包括球磨处理和除铁处理;其中,经所述球磨处理后的坯料能过110目筛;经所述球磨处理后的釉料能过140目筛;和/或
所述料经压制处理的压力控制为5-20kgf/cm2;和/或
所述坯体素烧处理是在氧化气氛中于温度为1150-1200℃下烧制1-3h;和/或
所述施釉处理包括淋釉、喷釉、甩釉或干粉布釉中任一种或至少两种组合的施釉处理方式;和/或
经所述施釉处理后形成的釉层厚度为0.1-0.5mm;和/或
所述釉烧处理是在氧化气氛中于温度为1050-1100℃下烧制0.5-1.5h。
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