[发明专利]利用离子液体低温电解SiO2制取高纯硅薄膜的方法有效

专利信息
申请号: 201510484983.5 申请日: 2015-08-10
公开(公告)号: CN105040020B 公开(公告)日: 2017-03-22
发明(设计)人: 徐君莉;公维英;谢开钰;刘爱民;李亮星;张霞;石忠宁 申请(专利权)人: 东北大学
主分类号: C25B1/00 分类号: C25B1/00
代理公司: 沈阳东大知识产权代理有限公司21109 代理人: 梁焱
地址: 110819 辽宁*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 利用 离子 液体 低温 电解 sio2 制取 高纯 薄膜 方法
【说明书】:

技术领域

发明属于材料技术领域,特别涉及一种利用离子液体低温电解SiO2制取高纯硅薄膜的方法。

背景技术

工业的快速发展,消耗了大量化石燃料,排放大量的温室气体,在能源和环境的双重压力之下,可再生能源的开发成为当前热点和重点;太阳能光伏发电是世界各国重点发展的可再生能源技术之一,具有最广阔的发展前景。

中国太阳能资源非常丰富,理论储量达每年1.7万亿吨标准煤;按照我国目前规划,到2050年中国光伏发电的累计装机将达到600GWp;按照中国电力科学院的预测,到2050年,中国可再生能源的电力装机将占全国电力装机的25%,其中光伏发电装机将占到5%。太阳能光伏发电在我国未来的能源供应中将占有重要的地位。

晶体硅材料(包括多晶硅和单晶硅)是当前最主要的太阳能光伏材料,市场占有率约80~90%;太阳能电池所用原材料硅片的纯度要求达到6N以上,硅片价格占成品硅太阳能电池成本的40%左右;因此降低原材料硅片的生产成本,对降低光伏发电成本、促进光伏产业的发展起关键性作用。

目前工业上制备高纯硅的方法是用电弧炉在2000℃进行碳热还原石英砂,得到纯度为2N的冶金级硅,然后采用改良西门子法将其提纯到6~11N的高纯硅;此法生产每吨多晶硅产生超过1.6吨的CO2和8吨的SiCl4副产品,以及三氯氢硅、氯气等废液废气,处理成本较高,并且该流程耗电量大;目前作为最先进的改良西门子法工艺,国外企业的综合能耗约为150kWh/(kgofSi),国内则是250~300kWh/(kgofSi),有的甚至达到400kWh/(kgofSi)。

近年来有不少研究着力于开发太阳能级高纯硅的低成本制备新技术,分为以下几类:(1)以氟化物体系(如LiF-KF,NaF-CaF2,LiF-KF-NaF等)或者氯化物体系(如CaCl2,NaCl-CaCl2-CaO等)为支撑电解质,以硅酸盐或二氧化硅为溶质电沉积硅;该工艺能耗高,生产不连续,且碳素阳极的使用,会带入一定量的硼、磷等杂质进入产物硅中,为后续物理或化学提纯硅增加了难度;(2)以高纯SiO2作阴极,在CaCl2熔盐中直接电脱氧,将固态SiO2还原为硅;由于SiO2的导电性差,导致不与阴极导电丝接触的内部还原速率慢、还原不彻底,产物Si与原材料SiO2并存,效率过低;(3)以SiCl4为溶质,在离子液体(如1-乙基-3-甲基咪唑,1-丁基-2-甲基吡咯烷双酰亚胺,3-甲基-n-己基铵双酰亚胺等)中电沉积Si;由于所用硅源SiCl4是由Si直接加热氯化或SiO2加碳氯化制备,这两种氯化过程的反应物Cl2和产物SiCl4均为有毒物质,需要额外处理,工艺流程长、生产成本升高;(4)在有机溶剂(如碳酸丙烯酯,乙二醇,乙腈和四氢呋喃的混合液等)中,以SiCl4/SiHCl3为溶质电沉积硅。该方法制备的硅中含有C,O,N和Cl等杂质,达不到太阳能级Si的纯度要求,且存在有机溶剂导电能力弱、沉积速率较低、电解质易挥发等问题。

发明内容

针对现有太阳能级高纯硅制备技术存在的上述问题,本发明提供一种利用离子液体低温电解SiO2制取高纯硅薄膜的方法,以高纯SiO2(≥99.995%)为原料,将其溶解于离子液体中电沉积制备太阳能级硅薄膜的短流程方法;在高效制备太阳能级硅薄膜的同时,降低生产成本。

本发明的方法按以下步骤进行:

1、准备电解质的原料,电解质的原料为氟化咪唑离子液体、冰晶石、氢氟酸溶液和二氧化硅,其中氟化咪唑离子液体占电解质总质量的94.5~99%,冰晶石占电解质总质量的0.5~1.5%,二氧化硅占电解质总质量的0.5~2%,氢氟酸溶液占电解质总质量的0~2%;所述的氟化咪唑离子液体为1,3-二甲基氟化咪唑、1-乙基-3-甲基氟化咪唑、1-丙基-3-甲基氟化咪唑或1-丁基-3-甲基氟化咪唑;所述的氢氟酸溶液的质量浓度为50%;所述的冰晶石为Na3AlF6

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