[发明专利]LOW-E玻璃基体材料组合物和LOW-E玻璃基体的制备方法

权利要求书

1.一种LOW-E玻璃基体材料组合物，其特征在于，所述组合物包括二氧化硅、碳酸钠、锰粉、萤石、石灰石和碳酸钾；其中，

相对于100重量份的所述二氧化硅，所述碳酸钠的含量为10-30重量份，所述锰粉的含量为1-5重量份，所述萤石的含量为5-20重量份，所述石灰石的含量为10-30重量份，所述碳酸钾的含量为1-5重量份。

2.根据权利要求1所述的组合物，其中，相对于100重量份的所述二氧化硅，所述碳酸钠的含量为15-25重量份，所述锰粉的含量为2-4重量份，所述萤石的含量为10-15重量份，所述石灰石的含量为15-25重量份，所述碳酸钾的含量为2-4重量份。

3.根据权利要求1所述的组合物，其中，所述组合物中还包括抗紫外剂；其中，

相对于100重量份的所述二氧化硅，所述抗紫外剂的含量为1-5重量份。

4.一种LOW-E玻璃基体的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：将二氧化硅、碳酸钠、锰粉、萤石、石灰石和碳酸钾混合后进行熔炼并冷却成型，制得LOW-E玻璃基体；其中，

相对于100重量份的所述二氧化硅，所述碳酸钠的用量为10-30重量份，所述锰粉的用量为1-5重量份，所述萤石的用量为5-20重量份，所述石灰石的用量为10-30重量份，所述碳酸钾的用量为1-5重量份。

5.根据权利要求4所述的制备方法，其中，相对于100重量份的所述二氧化硅，所述碳酸钠的用量为15-25重量份，所述锰粉的用量为2-4重量份，所述萤石的用量为10-15重量份，所述石灰石的用量为15-25重量份，所述碳酸钾的用量为2-4重量份。

6.根据权利要求4或5所述的制备方法，其中，所述制备方法还包括在熔炼前将二氧化硅、碳酸钠、锰粉、萤石、石灰石和碳酸钾进行研磨。

7.根据权利要求6所述的制备方法，其中，所述研磨为研磨至粒径不大于0.5mm。

8.根据权利要求4或5所述的制备方法，其中，所述制备方法还包括加入抗紫外剂进行熔炼。

9.根据权利要求8所述的制备方法，其中，相对于100重量份的所述二氧化硅，所述抗紫外剂的用量为1-5重量份。

10.根据权利要求4或5所述的制备方法，其中，所述熔炼过程的熔炼温度为1200-1800℃。